[實用新型]一種激光投射模組及深度成像裝置有效
| 申請號： | 202020794145.4 | 申請日： | 2020-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN212341618U | 公開（公告）日： | 2021-01-12 |
| 發明（設計）人： | 陳展耀;戴書麟;劉風雷 | 申請（專利權）人： | 東莞埃科思科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B27/48 | 分類號： | G02B27/48;G02B27/30 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 唐正瑜 |
| 地址： | 523000 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 激光 投射 模組 深度 成像 裝置 | ||
1.一種激光投射模組，其特征在于，包括：
VCSEL光源，用于發射光束；
準直鏡，用于對所述VCSEL光源發射的光束進行準直；
投射屏，位于所述準直鏡對所述光束準直后出射的光路上，用于根據所述光束成像，且所述準直鏡與所述投射屏之間的距離可調節；
轉換鏡頭，設置在所述準直鏡與所述投射屏之間，用于改變經所述準直鏡準直后的光束在所述準直鏡與所述投射屏之間的傳播路徑，以減小所述投射屏與所述準直鏡之間的實際物距，其中，所述實際物距表示所述VCSEL光源發射的光束在所述投射屏上清晰成像時要求所述投射屏與所述準直鏡之間間隔的距離；
圖像接收部，用于采集所述投射屏上的圖像，并確定所述圖像是否清晰。
2.根據權利要求1所述的激光投射模組，其特征在于，所述VCSEL光源、所述準直鏡和所述轉換鏡頭位于同一軸線上。
3.根據權利要求1所述的激光投射模組，其特征在于，所述轉換鏡頭與所述準直鏡之間間隔的距離與所述轉換鏡頭的焦距f一致。
4.根據權利要求3所述的激光投射模組，其特征在于，所述轉換鏡頭的焦距f滿足下列關系式：
其中，L表示所述VCSEL光源發射的光束在所述投射屏上清晰成像時所述轉換鏡頭與所述投射屏之間的距離，L′表示未設置所述轉換鏡頭時所述投射屏與所述準直鏡之間的實際物距。
5.根據權利要求1所述的激光投射模組，其特征在于，所述準直鏡與所述投射屏之間的距離為0.4至0.6米，所述轉換鏡頭的倍率為10至15倍。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的激光投射模組，其特征在于，所述激光投射模組還包括：
調節機構，用于接收所述圖像接收部發送的調節指令，其中，所述調節指令為所述圖像接收部基于所述圖像是否清晰而生成；以及，根據所述調節指令，調節所述準直鏡與所述投射屏之間間隔的距離。
7.一種深度成像裝置，其特征在于，包括：
權利要求1至6中任一項所述的激光投射模組，用于向目標空間投射散斑圖像；
接收模組，用于采集目標空間中的所述散斑圖像；
處理芯片，用于接收由所述接收模組采集的所述散斑圖像，并根據所述散斑圖像確定出所述目標空間的深度圖像。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于東莞埃科思科技有限公司，未經東莞埃科思科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020794145.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種含氨廢水達標排放系統
- 下一篇：一種發光標牌的遮光結構
