[實用新型]一種真空蒸鍍坩堝

有效

• 申請號: 202020793602.8
• 申請日: 2020-05-14
• 公開（公告）號: CN212357367U
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 郭果
• 申請（專利權）人: 蘇州工業園區通易機械有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 蘇州市指南針專利代理事務所(特殊普通合伙) 32268
• 代理人: 嚴明

1.一種真空蒸鍍坩堝，包括蒸鍍組合坩堝(1)，其特征在于：所述蒸鍍組合坩堝(1)包括坩堝內膽(4)和坩堝外體(5)，且坩堝內膽(4)設置在坩堝外體(5)的內部，所述坩堝內膽(4)的頂部設置有金屬法蘭片(8)，且金屬法蘭片(8)與坩堝內膽(4)和坩堝外體(5)貼合連接，所述坩堝外體(5)與坩堝內膽(4)通過固定螺栓(3)連接，且固定螺栓(3)貫穿坩堝外體(5)和金屬法蘭片(8)延伸至坩堝內膽(4)的內部。

2.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍坩堝，其特征在于：所述坩堝外體(5)的外表面設置有感應電源插口(2)，所述坩堝外體(5)的內部設置有密封加熱腔(11)，所述密封加熱腔(11)的內部設置有射頻感應線圈(7)，且射頻感應線圈(7)與感應電源插口(2)固定連接。

3.根據權利要求2所述的一種真空蒸鍍坩堝，其特征在于：所述射頻感應線圈(7)與坩堝內膽(4)貼合連接，所述密封加熱腔(11)的外側設置有隔熱填充層(6)，且隔熱填充層(6)與坩堝外體(5)通過卡槽連接。

4.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍坩堝，其特征在于：所述坩堝內膽(4)包括石墨套鍋(9)和不銹鋼鍋壁(10)，且不銹鋼鍋壁(10)安裝在石墨套鍋(9)的內部，所述不銹鋼鍋壁(10)的內部設置有蒸發反應腔(12)。

5.根據權利要求4所述的一種真空蒸鍍坩堝，其特征在于：所述不銹鋼鍋壁(10)的外圈直徑與石墨套鍋(9)的內圈直徑相同，且不銹鋼鍋壁(10)與石墨套鍋(9)貼合連接。