[實用新型]一種面曝光光源系統及面曝光增材制造裝置有效
| 申請號: | 202020742416.1 | 申請日: | 2020-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN212419635U | 公開(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發明(設計)人: | 王晨光;沈顯峰;王國偉;王開甲;吳鴻飛;孫凱華;陳金明 | 申請(專利權)人: | 中國工程物理研究院機械制造工藝研究所 |
| 主分類號: | B22F3/105 | 分類號: | B22F3/105;B33Y30/00 |
| 代理公司: | 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 胡曉麗 |
| 地址: | 621000*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 曝光 光源 系統 制造 裝置 | ||
1.一種面曝光光源系統,其特征在于,包括多個熱源,所述熱源用于形成點狀光斑,所有熱源形成的點狀光斑都投向同一平面內;
使用時,通過點亮選定熱源形成面狀光斑。
2.根據權利要求1所述的一種面曝光光源系統,其特征在于,所有熱源形成的點狀光斑投影方向相互平行。
3.根據權利要求1或2所述的一種面曝光光源系統,其特征在于,所述多個熱源呈陣列排。
4.根據權利要求3所述的一種面曝光光源系統,其特征在于,所述陣列的類型包括方格陣列、六邊形陣列和環形陣列。
5.一種面曝光增材制造裝置,包括權利要求1至4任一項所述的一種面曝光光源系統,其特征在于,還包括三維移動機構;設定面曝光增材制造裝置安裝平臺所在面為X軸和Y軸所在平面,以垂直于安裝平臺的方向為Z軸向;
通過三維移動機構帶動光源系統移動,調整面曝光光源系統的X/Y/Z坐標位置,以實現曝光光源系統面狀光斑投影至不同的待曝光位置。
6.根據權利要求5所述的一種面曝光增材制造裝置,其特征在于,所述三維移動機構包括Y軸平移機構(31)、Z軸升降機構(32)和X軸平移機構(33);
所述Y軸平移機構(31)的固定端安裝在安裝平臺上;
所述Z軸升降機構(32)的固定端安裝在Y軸平移機構(31)的滑動端上;
所述X軸平移機構(33)的固定端安裝在Z軸升降機構(32)的滑動端上;
所述X軸平移機構(33)的滑動端上安裝有托架(4),所述托架(4)用于安裝曝光光源系統;
所述Y軸平移機構(31)、Z軸升降機構(32)和X軸平移機構(33)中任意一種或多種采用的移動機構的類型包括直線導軌。
7.根據權利要求5或6所述的一種面曝光增材制造裝置,其特征在于,還包括鋪粉機構(1)和升降成型臺(2);
所述鋪粉機構(1)包括主體臺架(11)以及豎向貫穿主體臺架的鋪粉通道(12);
所述升降成型臺(2)包括升降滑臺(21)和基板(22),所述升降滑臺(21)帶動基板(22)在鋪粉通道(12)內上下升降運動;
在鋪粉通道(12)內壁和基板(22)圍成的槽內用于鋪粉;
所述面曝光光源系統形成的面狀光斑用于投影至基板(22)上。
8.根據權利要求7所述的一種面曝光增材制造裝置,其特征在于,所述主體臺架(11)的頂端面兩側設有防溢板(13),兩側的防溢板(13)的板面相向設置,所述鋪粉通道(12)的頂部端口位于兩側的防溢板(13)之間。
9.根據權利要求7所述的一種面曝光增材制造裝置,其特征在于,所述升降成型臺(2)還包括調節平臺(23),所述調節平臺(23)的底部固定在升降滑臺(21)上,調節平臺(23)的頂部安裝基板(22);所述調節平臺(23)用于基板(22)調平。
10.根據權利要求9所述的一種面曝光增材制造裝置,其特征在于,所述調節平臺(23)包括調節板和至少兩個調節螺桿;所述調節板上開設有若干螺紋孔,調節螺桿的一端選入螺紋孔、且貫穿螺紋孔后與基板(22)連接;通過順時針或逆時針旋轉調節螺桿,帶動基板(22)相應側向上或向下移動。
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