[實用新型]一種蒸汽足浴盆自平衡供水裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020694692.5
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN212574760U
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 林學(xué)金
• 申請（專利權(quán)）人: 林學(xué)金
• 主分類號: A47K3/022
• 分類號: A47K3/022;A61H33/06;A61H35/00;F22B1/28
• 代理公司: 福州智理專利代理有限公司 35208
• 代理人: 林捷華

本實用新型涉及一種蒸汽足浴盆自平衡供水裝置，包括有水箱、加熱倉、倉蓋和PTC加熱器；其中：加熱倉分割成并排且上、下部連通的加熱腔和儲水腔，且上部與倉蓋上的蒸汽通道連通；PTC加熱器設(shè)置在加熱腔遠離儲水腔一面的壁上，且成豎立設(shè)置；水箱設(shè)置在加熱倉頂部以上空間，且為密封結(jié)構(gòu)，通過底部的管道引入儲水腔中，位于儲水腔中的出水口高度，設(shè)置在對應(yīng)于PTC加熱器高度的三分之一至等高的高度范圍內(nèi)。本實用新型利用氣壓平衡原理，設(shè)計出由密封水箱，氣壓平衡自動補水的方案，滿足加熱倉實時供水的需要，實現(xiàn)水面的精確控制。

技術(shù)領(lǐng)域：

本實用新型涉及一種蒸汽足浴盆自平衡供水裝置，尤其是為熏蒸腳部的足浴盆提供供水模塊。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有足浴盆大多為溫水浸泡式，需加熱大量的熱水，并對熱水維持恒溫等要求，能耗大且等待時間長的缺陷；再則浸泡也受水位的影響，為此業(yè)者也制作出高桶結(jié)構(gòu)的足浴盆，以滿足小腿部的浸泡需求。若能利用蒸汽熏蒸，模擬汗蒸方式，即可解決上述諸多總量。

如專利申請?zhí)?01610866281.8，公開一種具有蒸汽熏蒸功能的足浴器，包含有儲水水箱組件、蒸汽鍋爐組件和蒸汽降溫組件；其中蒸汽鍋爐組件鄰于儲水水箱組件設(shè)置，依靠兩者自平衡供水，為此儲水水箱組件必須低于蒸汽降溫組件；而蒸汽降溫組件處于蒸汽鍋爐組件上方，通過風(fēng)扇同時吸入蒸汽和外部冷空氣，進行降溫后向側(cè)面送出蒸汽。蒸汽鍋爐組件包括有鍋爐本體、PTC加熱塊、溫控器和爐蓋等部件；水從鍋爐本體下部進入，蒸汽從爐蓋排出，結(jié)構(gòu)中規(guī)中矩。

但此類設(shè)備中，由于力求快速出蒸汽，蒸汽發(fā)生室空間都設(shè)計的很少，為此需不斷補充水量，這給液面?zhèn)鞲衅骷半姶砰y造成很大負荷，同時液面?zhèn)鞲衅饕彩芩|(zhì)結(jié)垢等影響，導(dǎo)致反應(yīng)不靈敏，往往誤動作等。

如何優(yōu)化設(shè)計，使供水能自平衡的方案，即成為本實用新型研究的對象。

發(fā)明內(nèi)容：

本實用新型的目的是設(shè)計一種通過高位落差向蒸汽總成供水，并通過氣壓平衡自動補水的蒸汽足浴盆自平衡供水裝置。

本實用新型技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的：一種蒸汽足浴盆自平衡供水裝置，包括有水箱、加熱倉、倉蓋和PTC加熱器；倉蓋設(shè)置在加熱倉頂部，并由倉蓋上設(shè)置的蒸汽通道引導(dǎo)出；其特征在于：加熱倉分割成并排且上、下部連通的加熱腔和儲水腔，所述PTC加熱器設(shè)置在加熱腔遠離儲水腔一面的壁上，且成豎立設(shè)置；所述水箱設(shè)置在加熱倉頂部以上空間，且為密封結(jié)構(gòu)，通過底部的管道引入儲水腔中，位于儲水腔中的出水口高度，設(shè)置在對應(yīng)于PTC加熱器高度的三分之一至等高的高度范圍內(nèi)。

所述儲水腔中出水口的直徑不小于7mm，且連通的管道直徑也不小于7mm。

所述加熱倉的儲水腔和加熱腔分割的腔壁具有隔熱功能的增厚結(jié)構(gòu)或中空結(jié)構(gòu)。

本實用新型利用氣壓平衡原理，設(shè)計出由密封水箱，氣壓平衡自動補水的方案，滿足加熱倉實時供水的需要，既能實現(xiàn)水面的精確控制，又無需額外傳感器和閥門，也能減少因水質(zhì)導(dǎo)致的各種故障；再則，加熱倉分割成加熱腔和儲水腔，既解決產(chǎn)生蒸汽快，沸騰不影響儲水腔液面的穩(wěn)定，且通過分割的腔壁隔熱設(shè)計，也能減少熱量損耗。

附圖說明：

下面結(jié)合具體圖例對本實用新型做進一步說明：

圖1為蒸汽足浴盆自平衡供水裝置示意圖

圖2為蒸汽足浴盆自平衡供水裝置剖面一示意圖

圖3為蒸汽足浴盆自平衡供水裝置剖面二示意圖

其中

1—水箱 11—管道 2—加熱倉 21—加熱腔

22—儲水腔 221—出水口 23—腔壁 231—中空結(jié)構(gòu)