[實用新型]一種新式隱形吸嘴

有效

• 申請號: 202020670658.4
• 申請日: 2020-04-28
• 公開（公告）號: CN212268791U
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發明（設計）人: 馮韻涵
• 申請（專利權）人: 九江嘉遠科技有限公司
• 主分類號: B65G47/91
• 分類號: B65G47/91
• 代理公司: 廣州市一新專利商標事務所有限公司 44220
• 代理人: 劉興耿

1.一種新式隱形吸嘴，其特征在于：包括有安裝座子（1）、吸嘴嘴頭（2）、光學鏡片（3）；

安裝座子（1）的下表面開設有朝下開口的座子容置槽（11），安裝座子（1）的芯部開設有朝上開口且下端與座子容置槽（11）連通的座子中心孔（12）；

吸嘴嘴頭（2）包括有嘴頭安裝部（21）、嘴頭桿部（22），嘴頭桿部（22）的上端部與嘴頭安裝部（21）連接且嘴頭桿部（22）呈豎向布置，嘴頭安裝部（21）與嘴頭桿部（22）為一體結構，吸嘴嘴頭（2）的芯部開設有嘴頭中心孔（23），嘴頭中心孔（23）的上端開口延伸至嘴頭安裝部（21）的上表面，嘴頭中心孔（23）的下端開口延伸至嘴頭桿部（22）的下端面；吸嘴嘴頭（2）的嘴頭安裝部（21）嵌裝并通過膠水粘接于安裝座子（1）的座子容置槽（11）內，吸嘴嘴頭（2）的嘴頭中心孔（23）與安裝座子（1）的座子中心孔（12）上下對齊且連通；

光學鏡片（3）為PMMA亞克力鏡片，光學鏡片（3）的中間位置開設有上下完全貫穿的鏡片中心孔（31），吸嘴嘴頭（2）的嘴頭桿部（22）穿過光學鏡片（3）的鏡片中心孔（31），光學鏡片（3）的上表面通過膠水粘接于安裝座子（1）的下表面；

嘴頭桿部（22）的下端面為光學級研磨平面，該光學級研磨平面的透光率T(%)為：410nm20%T25% ；350nm-700nm T0.1%；

光學鏡片（3）的表面設置有納米級真空鍍膜層，該納米級真空鍍膜層使得光學鏡片（3）的表面硬度2H且使得光學鏡片（3）的透光率T(%) ：410nm 20%T25%；350nm-700nm T0.1%；800nm-1100nm T80%。

2.根據權利要求1所述的一種新式隱形吸嘴，其特征在于：所述吸嘴嘴頭（2）為氧化鋯陶瓷件。

3.根據權利要求2所述的一種新式隱形吸嘴，其特征在于：所述吸嘴嘴頭（2）的嘴頭桿部（22）呈圓錐形狀，嘴頭桿部（22）的上端部的外徑值較下端部的外徑值大。

4.根據權利要求3所述的一種新式隱形吸嘴，其特征在于：所述嘴頭桿部（22）的錐度為3度。

5.根據權利要求1所述的一種新式隱形吸嘴，其特征在于：所述光學鏡片（3）的上表面為呈鋸齒形狀的鋸齒面。