[實用新型]一種刀片鍍膜機

有效

• 申請號: 202020654495.0
• 申請日: 2020-04-26
• 公開（公告）號: CN212533103U
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 黃昌龍;王有高
• 申請（專利權）人: 蘭溪藍光刀片有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616
• 代理人: 鄧凌云

本實用新型涉及一種刀片鍍膜機，還包括防護機構，所述防護機構包括至少3個磁性柱、與磁性柱個數相同的具有磁性的導向套、側防護片和上防護片，磁性柱等間距的固定在轉動圓盤外圈，側防護片設置在導向套與導向套之間形成防護筒，所述上防護片設置在防護筒的頂部，上防護片上設有供鎢螺旋加熱子穿過的通孔，轉動圓盤底部設有用于防護套嵌入的環形槽。通過在轉動圓盤上設置環形槽用于防護套嵌入，從而提高防護套與轉動圓盤之間的密封性能，避免鍍膜機工作的時候濺射物從防護機構與圓形轉盤之間濺射到鍍膜機本體的內壁上，另外，磁性柱與導向套之間為磁性連接，有效避免因為鍍膜機工作抖動而使防護機構會與原型轉盤分離，保證防護機構的有效性。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜機技術領域，具體涉及一種刀片鍍膜機。

背景技術

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種，需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且最終沉積在基片表面，經歷成膜過程，最終形成薄膜。

現有的鍍膜機為了防止鍍膜機內部濺射，通常會設置一個防止濺射的防護機構，如申請號為2019208069022中公開的一種可防止蒸鍍材料濺射的鍍膜機。實際應用證明，此種防護機構由于與圓形轉盤之間為自由狀態，防護機構與圓形轉盤之間密封性能差，在工作的時候，由于設備抖動，防護機構會與圓形轉盤出現短暫分離，濺射物容易從防護機構與圓形轉盤之間濺射到鍍膜機本體的內壁上，存在防護效果差的問題。

實用新型內容

針對背景技術中的不足，本實用新型提供一種刀片鍍膜機。

本實用新型所采用的技術方案是：一種刀片鍍膜機，包括底座、設置在底座上的鍍膜機本體、設置在鍍膜機本體上的驅動總成、與驅動總成連接的鎢螺旋加熱子、設置在底座上的連接桿、設置在鍍膜機本體上的觀察窗以及設置鍍膜機本體下方的轉動圓盤，還包括防護機構，所述防護機構包括至少3個磁性柱、與磁性柱個數相同的具有磁性的導向套、側防護片和上防護片，所述磁性柱等間距的固定在轉動圓盤外圈，所述側防護片設置在導向套與導向套之間形成防護筒，所述上防護片設置在防護筒的頂部，所述上防護片上設有供鎢螺旋加熱子穿過的通孔，所述的轉動圓盤底部設有用于防護套嵌入的環形槽。

進一步的，所述磁性柱為磁性金屬或耐高溫磁性橡膠。

進一步的，所述導向套由耐高溫磁性橡膠制成。

進一步的，所述磁性柱外周的轉動圓盤上設有環槽，所述環槽內固定有磁性環。

進一步的，所述側防護片和上防護片由耐高溫的透明塑料制成。

本實用新型的有益效果是：本實用新型通過在轉動圓盤上設置環形槽用于防護套嵌入，從而提高防護套與轉動圓盤之間的密封性能，避免鍍膜機工作的時候濺射物從防護機構與圓形轉盤之間濺射到鍍膜機本體的內壁上，另外，磁性柱與導向套之間為磁性連接，有效避免因為鍍膜機工作抖動而使防護機構會與原型轉盤分離，保證防護機構的有效性。

除了上面所描述的目的、特征和優點之外，本發明還有其他的目的、特征和優點。

下面將參照圖，對本發明作進一步詳細的說明。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖2為鍍膜機本體的內部示意圖。

圖3為轉動圓盤和防護機構的俯視示意圖。