[實用新型]口罩有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020641279.2 | 申請日: | 2020-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN212280017U | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 蘇健強;何永剛 | 申請(專利權(quán))人: | 珠海天威飛馬打印耗材有限公司 |
| 主分類號: | A41D13/11 | 分類號: | A41D13/11 |
| 代理公司: | 珠海智專專利商標(biāo)代理有限公司 44262 | 代理人: | 薛飛飛 |
| 地址: | 519060 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 口罩 | ||
1.口罩,其特征在于,包括相連接的口鼻覆蓋部和氣體處理部,所述口鼻覆蓋部與所述氣體處理部圍成面部容置空間;
所述口鼻覆蓋部的開口朝向所述面部容置空間,所述口鼻覆蓋部設(shè)置有氣腔室;
所述口罩內(nèi)開設(shè)有氣體通道,所述氣體通道的兩端分別設(shè)置有第一通氣口和第二通氣口,所述第一通氣口設(shè)置在所述口鼻覆蓋部的內(nèi)側(cè)壁并與所述氣腔室連通,所述第二通氣口設(shè)置在所述氣體處理部上并與外部大氣連通;
所述氣體處理部包括殼體和過濾層,所述口鼻覆蓋部和所述殼體均由不透氣材料制成,所述過濾層設(shè)置在所述氣體處理部內(nèi)并位于所述氣體通道內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的口罩,其特征在于:
所述第一通氣口和所述第二通氣口分別位于所述氣體處理部相對的兩側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的口罩,其特征在于:
所述第二通氣口位于所述氣體處理部朝向所述面部容置空間的側(cè)壁上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的口罩,其特征在于:
所述氣體處理部開設(shè)有第二通氣口的側(cè)壁上設(shè)置有至少兩個支撐突起,所述第二通氣口的上側(cè)和下側(cè)分別設(shè)置有至少一個所述支撐突起。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的口罩,其特征在于:
所述第二通氣口位于所述氣體處理部的底壁上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的口罩,其特征在于:
所述氣體處理部包括進氣處理部和排氣處理部,所述進氣處理部和所述排氣處理部分別設(shè)置在所述口鼻覆蓋部的左右兩側(cè);
所述氣體通道包括進氣通道和排氣通道,所述進氣通道自所述口鼻覆蓋部延伸至所述進氣處理部,所述排氣通道自所述口鼻覆蓋部延伸至所述排氣處理部;
所述第一通氣口包括排氣通道入口和進氣通道出口,所述第二通氣口包括排氣通道出口和進氣通道入口;
所述排氣通道出口位于所述排氣處理部上,所述進氣通道入口位于所述進氣處理部上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的口罩,其特征在于:
所述口罩還包括進氣單向閥和排氣單向閥,所述口鼻覆蓋部內(nèi)開設(shè)有通氣槽,所述通氣槽的開口朝向所述氣腔室,所述進氣單向閥和所述排氣單向閥均安裝在所述通氣槽的開口處,所述第一通氣口位于所述通氣槽的內(nèi)壁上,所述氣體通道通過所述通氣槽與所述氣腔室連通。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的口罩,其特征在于:
所述氣體通道包括相互連通的主體氣道段和處理部氣道段,主體氣道段的數(shù)量為多個,多個主體氣道段以所述通氣槽的軸線為中心呈放射狀布置;
所述第一通氣口位于所述主體氣道段的第一端,多個所述第一通氣口沿著所述通氣槽的內(nèi)周壁均勻布置,所述主體氣道段的第二端與所述處理部氣道段連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的口罩,其特征在于:
所述通氣槽內(nèi)設(shè)置有隔板,所述隔板將所述通氣槽分成進氣槽和排氣槽,所述進氣槽與所述進氣通道連通,所述排氣槽與所述排氣通道連通。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的口罩,其特征在于:
所述口罩還包括排氣閥組件,所述排氣閥組件包括閥座、所述進氣單向閥、所述排氣單向閥和透氣濾水棉;
所述進氣單向閥和所述排氣單向閥均安裝在所述閥座上,所述透氣濾水棉和所述通氣槽分別位于所述閥座相對的兩側(cè),所述進氣單向閥安裝在所述閥座朝向所述透氣濾水棉的一側(cè),所述排氣單向閥安裝在所述閥座朝向所述通氣槽的一側(cè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項所述的口罩,其特征在于:
所述殼體包括可拆卸地固定連接的底座和端蓋,所述底座與所述口鼻覆蓋部固定連接,所述過濾層被夾持在所述底座與所述端蓋之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的口罩,其特征在于:
所述氣體處理部還包括密封墊,所述密封墊設(shè)置在所述過濾層與所述底座之間。
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