[實用新型]一種新型立式加工中心有效
| 申請號: | 202020628361.1 | 申請日: | 2020-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN212552970U | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發明(設計)人: | 許立峰;賀謙 | 申請(專利權)人: | 深圳市諾峰光電設備有限公司 |
| 主分類號: | B23Q39/00 | 分類號: | B23Q39/00;B23Q11/10;B23Q11/00;B23Q3/155 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518110 廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 新型 立式 加工 中心 | ||
1.一種新型立式加工中心,其特征在于:包括底盤(1)、平臺機構、刀架(5)、加工頭(6)及水箱(7),其中,上述底盤(1)水平設置,底盤(1)內部設有安裝空間;上述平臺機構設置在底盤(1)的安裝空間內,平臺機構上安裝有待加工的零部件;上述刀架(5)及加工頭(6)設置在平臺機構的上方,刀架(5)上安裝有至少二個刀頭,工作刀頭安裝在加工頭(6)下部;上述水箱(7)設置于底盤(1)的一側,水箱(7)內儲存有冷卻液,冷卻液經水箱進行過濾沉淀后循環使用。
2.根據權利要求1所述的一種新型立式加工中心,其特征在于:所述的底盤(1)包括盤座(11)、斜導槽(12)、噴水嘴(14)及導口(15),其中,上述盤座(11)為水平座體結構,盤座(11)設有頂部為開放面的安裝空間;上述斜導槽(12)設置于盤座(11)內,且從盤座(11)一側內壁傾斜向下延伸至盤座(11)的另一側側壁;上述導口(15)設置于盤座(11)另一側側壁外部,并與斜導槽(12)連通;上述噴水嘴(14)朝斜導槽(12)方向設置在盤座(11)另一側內壁上,以便將加工過程中產生的渣滓沿斜導槽(12)沖洗至導口(15)。
3.根據權利要求2所述的一種新型立式加工中心,其特征在于:所述的斜導槽(12)包括二條,兩斜導槽(12)平行間隔地設置在盤座(11);上述導口(15)包括二個,兩導口分別與兩斜導槽(12)連通;上述噴水嘴(14)包括二組,兩組噴水嘴(14)分別對應兩斜導槽(12)設置;上述噴水嘴(14)通過水平設置于盤座(11)內的支板(13)支撐。
4.根據權利要求3所述的一種新型立式加工中心,其特征在于:所述的平臺機構包括第一模組(2)、第二模組(3)及加工臺(4),其中,上述第一模組(2)設置在底盤(1)上,第二模組(3)垂直于第一模組(2)設置,并與第一模組(2)的輸出端連接;上述加工臺(4)水平連接在第二模組(3)的上部,經第一模組(2)及第二模組(3)驅動而在水平面內運動。
5.根據權利要求4所述的一種新型立式加工中心,其特征在于:所述的水箱(7)包括水箱體(71)、過濾空間、過濾組件及水泵(78),其中,上述水箱體(71)為盒狀結構;上述過濾空間設置于水箱體(71)的內部,過濾空間包括二組,兩組過濾空間分別設置于水箱體(71)的左右兩側;單組的過濾空間包括至少二個獨立空間;上述過濾組件設置于相鄰兩獨立空間之間,加工中心導出的帶有殘渣的冷卻液依次經各獨立空間及過濾組件進行網孔過濾或物理沉淀;上述水泵(78)設置于冷卻液最后儲存的獨立空間上,并將經過網孔過濾或物理沉淀后的冷卻液向外循環導回至加工中心;過濾空間包括第一過濾空間(A)、第二過濾空間(B)、第三過濾空間(C)、第四過濾空間(D)及第五過濾空間,第一過濾空間(A)設置于外側,第二過濾空間(B)及第三過濾空間(C)沿垂直于第一過濾空間(A)依次設置于第一過濾空間(A)側部;上述第四過濾空間(D)的兩側邊分別貼緊第一過濾空間(A)及第三過濾空間(C)設置;上述第五過濾空間的兩側邊貼緊兩第四過濾空間(D)設置。
6.根據權利要求5所述的一種新型立式加工中心,其特征在于:所述的過濾組件包括第一過濾網(72)、第二過濾網(73)、第一過濾孔(74)、第二過濾孔(75)、第三過濾網(76)及第四過濾網(77),第一過濾空間(A)及第二過濾空間(B)的頂部分別設有第一過濾網(72)及第二過濾網(73),加工過程中產生的帶渣滓的加工液分別經第一過濾網(72)及第二過濾網(73)過濾后,流入第一過濾空間(A)及第二過濾空間(B)。
7.根據權利要求6所述的一種新型立式加工中心,其特征在于:所述的第一過濾空間(A)與第二過濾空間(B)之間的隔板上開設有第一過濾孔(74),第二過濾空間(B)與第三過濾空間(C)之間的隔板上開設有第二過濾孔(75),且第一過濾孔(74)的孔底高度高于第一過濾空間(A)的底面,第二過濾孔(75)的孔底高度高于第一過濾孔(74)的孔底,加工液在第一過濾空間(A)進行物理沉淀后經第一過濾孔(74)進入第二過濾空間(B),在第二過濾空間(B)內進行物理沉淀后經第二過濾孔(75)進入第三過濾空間(C)。
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