[實用新型]用于檢測光源均勻性的檢測系統有效
| 申請號: | 202020571819.4 | 申請日: | 2020-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN212539575U | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | 顏博霞;亓巖;王延偉;韓哲;范元媛;王宇 | 申請(專利權)人: | 中國科學院微電子研究所 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02;G01J1/42 |
| 代理公司: | 北京辰權知識產權代理有限公司 11619 | 代理人: | 付婧 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 檢測 光源 均勻 系統 | ||
1.一種用于檢測光源均勻性的檢測系統,其特征在于,包括:熒光部件、濾光部件、攝像部件、處理部件及顯示部件;
所述熒光部件包含熒光物質,用于接受待測光源發射的光波,以激發熒光物質發射具有熒光波長的熒光輻射;
所述濾光部件,用于使所述熒光物質發射的熒光輻射通過,而使所述待測光源發射的光波過濾;
所述攝像部件分別與所述處理部件和所述顯示部件通信連接,所述攝像部件用于感應通過所述濾光部件的所述熒光輻射,生成所述熒光輻射對應的光譜圖像,并將所述光譜圖像發送至所述處理部件和所述顯示部件;
所述處理部件與所述顯示部件通信連接,所述處理部件用于對獲取到的光譜圖像進行處理分析,依據所述光譜圖像中不同位置的熒光輻射強度,判斷待測光源的均勻性是否合格,并將判斷結果發送至所述顯示部件;
所述顯示部件,用于顯示所述光譜圖像和所述判斷結果。
2.根據權利要求1所述的檢測系統,其特征在于,所述熒光物質具有均勻的預設溶度。
3.根據權利要求1或2所述的檢測系統,其特征在于,所述熒光部件為石英玻璃制作的長方體盒子。
4.根據權利要求1所述的檢測系統,其特征在于,所述待測光源的發光功率小于等于預設功率。
5.根據權利要求1所述的檢測系統,其特征在于,所述待測光源為線激光光源或面激光光源。
6.根據權利要求1所述的檢測系統,其特征在于,所述攝像部件為CCD相機。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院微電子研究所,未經中國科學院微電子研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020571819.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





