[實用新型]一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺

有效

• 申請號: 202020561505.6
• 申請日: 2020-04-14
• 公開（公告）號: CN211669496U
• 公開（公告）日: 2020-10-13
• 發明（設計）人: 王歷先
• 申請（專利權）人: 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 合肥天明專利事務所(普通合伙) 34115
• 代理人: 奚華保

1.一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺，其特征在于：包括運動及負載底板、支撐機構、滑動機構和驅動機構；

所述運動及負載底板上安裝有光頭；

所述支撐機構包括底座、安裝在底座上方的立柱、安裝在立柱前端頂部的前導軌基座和安裝在立柱后端頂部的后導軌基座；

所述滑動機構包括前導軌組件和后導軌組件；所述前導軌組件包括安裝在前導軌基座頂部的前導軌和安裝在前導軌上且與前導軌滑動配合的前滑塊；所述后導軌組件包括安裝在后導軌基座頂部的后導軌和安裝在后導軌上且與后導軌滑動配合的后滑塊；所述運動及負載底板位于滑動機構上方，且運動及負載底板的前后兩端的底部分別與前滑塊、后滑塊固定相連；

所述驅動機構包括安裝在后導軌基座頂部且用于驅動運動及負載底板沿導軌滑動的電機。

2.根據權利要求1所述的一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺，其特征在于：所述運動及負載底板上開設有光頭安裝孔；所述光頭安裝在光頭安裝孔中，且光頭位于前導軌組件與后導軌組件之間。

3.根據權利要求1所述的一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺，其特征在于：所述后導軌包括分別設置在后導軌基座前后兩端頂部的導軌一與導軌二，所述導軌一上安裝有與導軌一滑動配合的滑塊一，所述導軌二上安裝有與導軌二滑動配合的滑塊二。

4.根據權利要求1所述的一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺，其特征在于：所述底座采用大理石材質。

5.根據權利要求1所述的一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺，其特征在于：所述立柱包括分別對稱設置在底座上方的一對柱體；所述柱體的中間設有凹槽。

6.根據權利要求3所述的一種用于激光直寫曝光機的曝光平臺，其特征在于：所述電機位于導軌一與導軌二之間。