[實(shí)用新型]一種真空滅弧觸頭組件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202020543691.0
• 申請日: 2020-04-14
• 公開（公告）號: CN211654686U
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 齊巧霞;李偉青
• 申請（專利權(quán)）人: 陜西寶光真空電器股份有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664;H01H33/53
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種真空滅弧觸頭組件，其特征在于，包括：

觸頭座(1)，所述觸頭座(1)的上端形成開口；

觸頭托(2)，所述觸頭托(2)裝配在所述觸頭座(1)的開口；

觸頭(3)，所述觸頭(3)設(shè)置在所述觸頭托(2)的上端，所述觸頭(3)的上表面設(shè)有向下凹陷的預(yù)變形弧面(30)；

抗壓觸頭支撐(4)，所述抗壓觸頭支撐(4)設(shè)置在所述觸頭座(1)和所述觸頭托(2)之間，且所述抗壓觸頭支撐(4)與所述觸頭托(2)間隔設(shè)置；

抗拉觸頭支撐(5)，所述抗拉觸頭支撐(5)設(shè)置在所述觸頭座(1)和所述觸頭托(2)之間并位于所述抗壓觸頭支撐(4)的外側(cè)，所述抗拉觸頭支撐(5)與所述觸頭托(2)間隔設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭座(1)、所述觸頭托(2)、所述觸頭(3)、所述抗壓觸頭支撐(4)和所述抗拉觸頭支撐(5)同軸布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭座(1)包括座底(11)和座側(cè)壁(12)，所述座側(cè)壁(12)環(huán)設(shè)在所述座底(11)的邊緣，所述座底(11)的上端面設(shè)有圓形槽(13)，所述抗壓觸頭支撐(4)設(shè)置在所述圓形槽(13)中。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭托(2)的底部設(shè)有環(huán)形的凸肋(20)，所述抗壓觸頭支撐(4)設(shè)置在所述凸肋(20)的徑向內(nèi)側(cè)，所述抗拉觸頭支撐(5)設(shè)置在所述凸肋(20)的徑向外側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭托(2)與所述觸頭(3)為一體結(jié)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述座側(cè)壁(12)的外周面設(shè)有多個等角間隔的旋弧槽(120)，所述旋弧槽(120)的頂點(diǎn)延伸至所述座側(cè)壁(12)的上緣并形成方槽(121)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭托(2)沿周向設(shè)有對應(yīng)所述旋弧槽(120)個數(shù)的第一通槽(2A)，所述第一通槽(2A)的徑向外端連接至對應(yīng)的一個所述方槽(121)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭(3)沿周向設(shè)有對應(yīng)所述旋弧槽(120)個數(shù)的第二通槽(3A)，所述第二通槽(3A)與所述第一通槽(2A)沿軸向?qū)R。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，至少部分所述第一通槽(2A)的延伸方向不經(jīng)過所述觸頭托(2)的中心，至少部分所述第二通槽(3A)不經(jīng)過所述觸頭(3)的中心。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的真空滅弧觸頭組件，其特征在于，所述觸頭座(1)和所述觸頭托(2)由無氧銅材料制備，所述觸頭(3)由銅鉻材料制備，所述抗壓觸頭支撐(4)和所述抗拉觸頭支撐(5)由不銹鋼材料制備。