[實(shí)用新型]用于等離子室的邊緣環(huán)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020516038.5
• 申請(qǐng)日: 2020-04-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212230390U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邁克爾·C·凱洛格;亞當(dāng)·克里斯多夫·梅斯;阿列克謝·馬拉霍塔諾夫;約翰·霍蘭德;陳志剛;菲力克斯·萊布·科扎克維奇;亞歷山大·馬丘什金
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 朗姆研究公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01J37/32
• 分類(lèi)號(hào): H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 上海勝康律師事務(wù)所 31263
• 代理人: 李獻(xiàn)忠;張華

1.一種用于等離子室的邊緣環(huán)，所述邊緣環(huán)被配置為沿襯底支撐件的外圍放置，所述邊緣環(huán)的特征在于，

所述邊緣環(huán)的頂部，其包括：

內(nèi)部臺(tái)階區(qū)域；

傾斜區(qū)域；

外部彎曲區(qū)域；

具有頂部環(huán)形表面的中間頂部區(qū)域，其中所述中間頂部區(qū)域在所述外部彎曲區(qū)域和所述傾斜區(qū)域之間延伸，其中所述傾斜區(qū)域具有環(huán)狀的成角度的表面并且設(shè)置在所述中間頂部區(qū)域和所述內(nèi)部臺(tái)階區(qū)域之間；以及

所述邊緣環(huán)的底部，其包括底部環(huán)形表面，所述底部環(huán)形表面具有從所述底部環(huán)形表面形成到所述邊緣環(huán)中的多個(gè)螺釘插孔件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)延伸到在所述底部環(huán)形表面和所述頂部環(huán)形表面之間的深度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)具有容納螺紋。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)具有容納螺紋，所述容納螺紋被配置為容納螺釘?shù)穆菁y。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)從所述底部環(huán)形表面朝向所述頂部環(huán)形表面延伸到所述中間頂部區(qū)域中。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)在所述中間頂部區(qū)域內(nèi)不形成通孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)部分地延伸到所述中間頂部區(qū)域中。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述邊緣環(huán)具有下部臺(tái)階區(qū)域和上部臺(tái)階區(qū)域，其中所述上部臺(tái)階區(qū)域位于所述下部臺(tái)階區(qū)域上方，其中，所述多個(gè)螺釘插孔件中的每一個(gè)延伸到所述下部臺(tái)階區(qū)域中，而不延伸到所述上部臺(tái)階區(qū)域中。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán)，其中，所述內(nèi)部臺(tái)階區(qū)域具有頂部止擋表面，其中，所述傾斜區(qū)域提供從所述頂部環(huán)形表面向下到所述頂部止擋表面的傾斜。