[實用新型]一種化工回轉反應爐冷卻裝置及化工回轉反應爐

有效

• 申請號: 202020485977.8
• 申請日: 2020-04-07
• 公開（公告）號: CN212205600U
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發明（設計）人: 張帆;單國慶;李翠;余科義;吳朝陽;趙開樓;牛國輝;王司渝;汪博皓
• 申請（專利權）人: 河南應用技術職業學院
• 主分類號: F27B7/38
• 分類號: F27B7/38;F27D9/00
• 代理公司: 鄭州博派知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 41137
• 代理人: 伍俊慧

本實用新型涉及一種化工回轉反應爐冷卻裝置及化工回轉反應爐，屬于化工設備技術領域。本實用新型的化工回轉反應爐，包括圓筒形的爐體和用來向爐體上噴淋冷卻水的冷卻裝置，冷卻裝置包括導軌，導軌上設置有兩個以上且沿導軌長度延伸方向依次間隔設置的噴淋裝置，噴淋裝置包括底座、輸水裝置、噴淋管道；底座包括立柱，立柱下端設置有與導軌導向滑動配合的滑塊，立柱上端固定設置有輸水裝置；輸水裝置上連接有所述噴淋管道；噴淋管道包括豎直噴淋管、水平噴淋管、圓弧形噴淋管，圓弧形噴淋管上設置有噴口朝向所述爐體的噴淋頭。本實用新型的化工回轉反應爐無需設置很多的噴淋管，也方便對噴淋頭進行清理維護，節省了人力和成本。

技術領域

本實用新型涉及一種化工回轉反應爐冷卻裝置及化工回轉反應爐，屬于化工設備技術領域。

背景技術

在化工領域，反應爐是一種常用的反應設備。很多的反應爐在使用過程中都需要加熱，有的還需要高溫條件。進行高溫加熱的反應爐的爐壁雖然都有保溫材料保護，但是爐外壁依然會處于非常高的溫度，隨著時間的推移，會造成爐體的使用壽命下降。回轉反應爐高溫時爐體發生膨脹，還會導致轉動不穩定，除了影響設備使用壽命，還會導致反應工藝條件無法保證、損壞相關的設備，而且在向周圍環境散發熱量時，還會影響外部操作環境。

有一些回轉反應爐采用向爐體表面噴水的方式來降低窯表面溫度，但是這種噴水的冷卻裝置大多是固定的，不能移動，而有些回轉反應爐并不是在反應的整個工藝過程中需要對爐體的固定部位進行噴水降溫，而是需要變換冷卻部位，對不同的位置進行噴水。

公告號為CN204665890U的實用新型專利公開了一種回轉窯冷卻系統，包括回轉窯體，所述回轉窯體的周圍設置有噴淋系統，所述噴淋系統包括水平設置在回轉窯體下方的主循環水管道，所述回轉窯體的上方設置有與回轉窯中線相平行的水路管道，所述主循環水管道與水路管道通過連通管相連通；所述水路管道從回轉窯體的窯頭延伸至窯尾，所述水路管道設置有盲板，將所述水路管道分為5段，所述水路管道上設置有噴淋管，所述噴淋管的噴淋管朝向回轉窯體。

這種冷卻系統采用將回轉窯體的高溫段區域的水路管道的直徑設置為大于低溫段區域的水路管道的直徑，并在連通管上設置電動調節閥，可以調節水路管道各段的進水量和進水速度。但是，這種冷卻系統中的噴淋管不能移動，僅能固定在設定的位置進行噴淋，需要設置很多的噴淋管或噴淋頭，成本較高，而且在一些生產煙塵較多的環境中，噴淋頭很容易堵塞，由于數量較多而很不方便維護和維修。

發明內容

本實用新型提供一種化工回轉反應爐冷卻裝置，該冷卻裝置不需要設置很多的噴淋頭，維護和維修方便。本實用新型還提供了一種使用上述冷卻裝置的化工回轉反應爐。

本實用新型解決上述技術問題所采用的技術方案如下：

一種化工回轉反應爐，包括圓筒形的爐體和用來向爐體上噴淋冷卻水的冷卻裝置，所述冷卻裝置包括導軌，導軌的長度延伸方向與爐體的軸線平行，導軌上設置有兩個以上且沿導軌長度延伸方向依次間隔設置的噴淋裝置，噴淋裝置包括底座、輸水裝置、噴淋管道；

底座包括立柱，立柱下端設置有與導軌導向滑動配合的滑塊，立柱上端固定設置有輸水裝置；

輸水裝置包括三通管，三通管的三個開口分別構成了進水口、出水口、噴淋口，所述噴淋口上連接有所述噴淋管道；在沿水流方向上，上游的噴淋裝置的出水口與相鄰的下游的噴淋裝置的進水口通過軟管相連；

噴淋管道包括豎直噴淋管，豎直噴淋管下端連接所述噴淋口，豎直噴淋管上端連接有水平噴淋管，水平噴淋管遠離豎直噴淋管的一端連接有圓弧形噴淋管，圓弧形噴淋管的軸線與所述爐體的軸線重合，圓弧形噴淋管上設置有噴口朝向所述爐體的噴淋頭。

所述進水口上設置有進水閥，出水口上設置有出水閥。

所述水平噴淋管遠離豎直噴淋管的一端連接有豎直延伸的連接管，連接管上端與水平噴淋管相連，下端與圓弧形噴淋管的弧頂位置相連。