[實用新型]一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置

有效

• 申請號: 202020465416.1
• 申請日: 2020-04-02
• 公開（公告）號: CN212086562U
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發明（設計）人: 余莉萍;沈中增;唐田田;竇鳳玲;李玲玲
• 申請（專利權）人: 蘇州敬天愛人環境科技有限公司
• 主分類號: H05H1/24
• 分類號: H05H1/24
• 代理公司: 蘇州智品專利代理事務所(普通合伙) 32345
• 代理人: 呂明霞

1.一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，包括等離子體裝置本體（1），其特征在于：所述等離子體裝置本體（1）的下表面固定設置有等離子體裝置底板（2），所述等離子體裝置底板（2）的上表面焊接設置有等離子體裝置主承軸（3）所述等離子體裝置主承軸（3）采用不銹鋼材料制成，所述等離子體裝置主承軸（3）的前表面焊接設置有等離子體介質阻擋器（4），所述等離子體介質阻擋器（4）的外表面固定設置有松緊調節螺栓（5）且所述松緊調節螺栓（5）外表面設置有螺紋；

所述松緊調節螺栓（5）的下表面固定設置有螺栓減震墊片（6）且所述螺栓減震墊片（6）采用減震塑膠制成，所述螺栓減震墊片（6）的前表面固定設置有控制器支撐臺（7），所述控制器支撐臺（7）的上表面焊接設置有控制器安裝固定圓盤（8），所述控制器安裝固定圓盤（8）的上表面固定設置有介質阻擋顯示屏（9）且所述介質阻擋顯示屏（9）采用玻璃鏡片制成，所述介質阻擋顯示屏（9）的下表面固定設置有控制面板（10）。

2.根據權利要求1所述的一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，其特征在于：所述控制面板（10）的上表面焊接設置有等離子體介質阻擋調節旋鈕（11），所述等離子體介質阻擋調節旋鈕（11）的右表面焊接設置有介質調節旋鈕固定臺（12）。

3.根據權利要求2所述的一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，其特征在于：所述介質調節旋鈕固定臺（12）的左表面固定設置有等離子體介質阻擋控制按鈕（13）且等離子體介質阻擋控制按鈕（13）線型陣列在控制面板（10）的上表面。

4.根據權利要求3所述的一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，其特征在于：所述等離子體介質阻擋控制按鈕（13）的左表面固定設置有等離子體裝置電源開關（14），所述等離子體裝置電源開關（14）的右表面焊接設置有等離子體低溫調節器（15）。

5.根據權利要求4所述的一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，其特征在于：所述等離子體低溫調節器（15）的外表面固定設置有加固隔板（16），所述加固隔板（16）的上表面固定設置有連接管安裝凸槽（17）。

6.根據權利要求5所述的一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，其特征在于：所述連接管安裝凸槽（17）的前表面固定設置有緊急制動閥門（18），所述緊急制動閥門（18）的前表面固定設置有雙管連接器（19）。

7.根據權利要求6所述的一種液體瀑布式處理的介質阻擋低溫等離子體裝置，其特征在于：所述雙管連接器（19）的下表面固定設置有連接管（20）。