[實(shí)用新型]光學(xué)成像系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020462375.0
• 申請(qǐng)日: 2020-04-02
• 公開（公告）號(hào): CN211506002U
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張永明;賴建勛;劉燿維
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 先進(jìn)光電科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B13/00
• 分類號(hào): G02B13/00;G02B13/18;G02B13/14;G02B1/04
• 代理公司: 上海元好知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31323
• 代理人: 賈慧琴;周乃鑫

1.一種光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，由物側(cè)至像側(cè)依次包含：

第一透鏡，具有屈折力；

第二透鏡，具有屈折力；

第三透鏡，具有屈折力；

第四透鏡，具有屈折力；

第五透鏡，具有屈折力；

第六透鏡，具有屈折力；以及

紅外光成像面；

其中，所述的光學(xué)成像系統(tǒng)具有屈折力的透鏡為六枚，所述的第一透鏡至所述的第六透鏡中至少一透鏡具有正屈折力，所述的光學(xué)成像系統(tǒng)的焦距為f，所述的光學(xué)成像系統(tǒng)的入射瞳直徑為HEP，所述的第六透鏡像側(cè)面出光瞳直徑為HXP，所述的光學(xué)成像系統(tǒng)的最大可視角度的一半為HAF，所述的第一透鏡至所述的第六透鏡于1/2HXP高度且平行于光軸的厚度分別為ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5以及ETP6，前述ETP1至ETP6的總和為SETP，所述的第一透鏡至所述的第六透鏡于光軸的厚度分別為TP1、TP2、TP3、TP4、TP5以及TP6，前述TP1至TP6的總和為STP，其滿足下列條件：0.5≤f/HEP≤1.8；0degHAF≤50deg以及0.2≤SETP/STP1。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的紅外光的波長(zhǎng)介于700nm至1300nm以及第一空間頻率以SP1表示，其滿足下列條件：SP1≤440cycles/mm。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的紅外光的波長(zhǎng)介于850nm至960nm以及第一空間頻率以SP1表示，其滿足下列條件：SP1≤220cycles/mm。

4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的第一透鏡物側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述的紅外光成像面間平行于光軸的水平距離為ETL，所述的第一透鏡物側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述的第六透鏡像側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列條件：0.2≤EIN/ETL1。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的第一透鏡物側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)至所述的第六透鏡像側(cè)面上于1/2HEP高度的坐標(biāo)點(diǎn)間平行于光軸的水平距離為EIN，其滿足下列公式：0.2≤SETP/EIN1。

6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的第一透鏡與所述的第二透鏡之間于光軸上的距離為IN12，所述的第三透鏡與所述的第四透鏡之間于光軸上的距離為IN34，其滿足下列條件：IN12IN34。

7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的第四透鏡與所述的第五透鏡之間于光軸上的距離為IN45，所述的第五透鏡與所述的第六透鏡之間于光軸上的距離為IN56，其滿足下列條件：IN56IN45。

8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，所述的第三透鏡與所述的第四透鏡之間于光軸上的距離為IN34，所述的第四透鏡與所述的第五透鏡之間于光軸上的距離為IN45，其滿足下列條件：IN45IN34。

9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于，更包括光圈，并且于所述的光圈至所述的紅外光成像面于光軸上具有一距離InS，所述的第一透鏡物側(cè)面至所述的紅外光成像面于光軸上具有一距離HOS，其滿足下列公式：0.2≤InS/HOS≤1.1。