[實用新型]一種用于濺射工藝的掩膜板有效
| 申請號： | 202020460658.1 | 申請日： | 2020-04-02 |
| 公開（公告）號： | CN211848109U | 公開（公告）日： | 2020-11-03 |
| 發明（設計）人： | 彭海 | 申請（專利權）人： | 無錫元核芯微電子有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司： | 連云港聯創專利代理事務所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人： | 劉剛 |
| 地址： | 214000 江蘇省無錫市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 濺射 工藝 掩膜板 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：包括基板(1)；
所述基板(1)的上端面設置有耐高溫掩膜板(2)；
所述耐高溫掩膜板(2)的上端面設置有電阻層(3)；
所述耐高溫掩膜板(2)的平面區域內刻有鏤空的圖形結構。
2.根據權利要求1所述的一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：所述基板(1)的材質為表面具有聚酰亞胺的玻璃板。
3.根據權利要求1所述的一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：所述電阻層(3)的材質為氮化鉭。
4.根據權利要求1所述的一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：所述耐高溫掩膜板(2)的材質為聚酰亞胺。
5.根據權利要求1所述的一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：所述耐高溫掩膜板(2)將濺射出的電阻金屬粒子通過其縷空圖形結構沉積在基板(1)上。
6.根據權利要求1所述的一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：所述耐高溫掩膜板(2)呈可移除設置。
7.根據權利要求1所述的一種用于濺射工藝的掩膜板，其特征在于：所述基板(1)上直接呈現電阻圖形。
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