[實用新型]屏下指紋識別裝置、背光模組、液晶顯示屏和電子設備

有效

• 申請號: 202020454543.1
• 申請日: 2020-03-31
• 公開（公告）號: CN211529178U
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發明（設計）人: 廖志川;青小剛;李家成
• 申請（專利權）人: 深圳市匯頂科技股份有限公司
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00;G02F1/13357;G02F1/1333
• 代理公司: 北京龍雙利達知識產權代理有限公司 11329
• 代理人: 孫濤;毛威

1.一種屏下指紋識別裝置，適用于具有液晶顯示屏的電子設備，其特征在于，所述屏下指紋識別裝置的指紋檢測區域至少部分位于所述液晶顯示屏的顯示區域；

所述屏下指紋識別裝置包括位于所述液晶顯示屏的背光模組下方的指紋識別模組，所述指紋識別模組用于接收經所述指紋檢測區域上方的手指反射或透射形成的并透過所述液晶顯示屏的指紋檢測光，以獲取所述手指的指紋圖像；

其中，所述背光模組包括擴散膜、導光板和反射膜，所述導光板相鄰設置在所述擴散膜的下方，所述擴散膜面向所述導光板的表面具有多個間隔設置的第一微結構，所述第一微結構在所述擴散膜的下表面隨機分布，并用于增大所述擴散膜和所述導光板之間的間距，所述反射膜相鄰設置在所述導光板的下方，所述反射膜面向所述導光板的表面具有多個間隔設置的第二微結構，所述第二微結構在所述反射膜的上表面隨機分布，并用于增大所述反射膜和所述導光板之間的間距。

2.根據權利要求1所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述第一微結構為所述擴散膜的下表面形成的凸起結構，所述第一微結構的高度范圍在1微米到10微米之間。

3.根據權利要求1所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述第二微結構為所述反射膜的上表面形成的凸起結構，所述第二微結構的高度范圍在1微米到10微米之間。

4.根據權利要求1所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述導光板包括基材，所述基材的上表面設置有多個凸起的導光槽，所述導光槽沿所述導光板的第一方向延伸，并沿所述導光板的第二方向均勻間隔排列，所述導光槽沿所述第二方向的排列周期為T1。

5.根據權利要求4所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述第一方向平行于所述導光板的長邊，所述第二方向平行于所述導光板的短邊；

或者，所述第一方向平行于所述導光板的短邊，所述第二方向平行于所述導光板的長邊。

6.根據權利要求4所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述導光槽的高度范圍在1微米到3微米之間。

7.根據權利要求6所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述導光槽的高度為1.75微米。

8.根據權利要求4所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述導光槽沿所述第二方向的截面為弓形，所述弓形對應的圓弧的曲率半徑的范圍在30微米到150微米之間。

9.根據權利要求8所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述圓弧的曲率半徑為40微米。

10.根據權利要求4-9中任一項所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述液晶顯示屏還包括位于所述背光模組上方的液晶模組，所述液晶模組中包括呈陣列分布的液晶像素，所述液晶像素包括三個形狀和大小均相同的子像素，所述子像素沿所述第二方向的排列周期為T2，并且T1T2。

11.根據權利要求10所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，T1-T2≥60微米。

12.根據權利要求4-9中任一項所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述液晶顯示屏還包括位于所述背光模組上方的液晶模組，所述液晶模組中包括呈陣列分布的液晶像素，所述液晶像素包括三個子像素，其中所述三個子像素中至少兩個子像素的形狀或大小不同，所述液晶像素沿所述第二方向的排列周期為T3，并且T1T3。

13.根據權利要求12所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，T1-T3≥60微米。

14.根據權利要求12所述的屏下指紋識別裝置，其特征在于，所述三個子像素中的一個子像素的形狀為矩形，另外兩個子像素的形狀為梯形，并且形狀為矩形的所述一個子像素位于形狀為梯形的所述兩個子像素的中間。