[實用新型]灌注樁樁頂浮漿層破除裝置的可調支架有效
| 申請號: | 202020446730.5 | 申請日: | 2020-03-31 |
| 公開(公告)號: | CN211735391U | 公開(公告)日: | 2020-10-23 |
| 發明(設計)人: | 王俊卓;陳旭 | 申請(專利權)人: | 中冶建工集團有限公司 |
| 主分類號: | E02D9/00 | 分類號: | E02D9/00 |
| 代理公司: | 重慶博凱知識產權代理有限公司 50212 | 代理人: | 陸瑞 |
| 地址: | 400084 *** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 灌注 樁樁 頂浮漿層 破除 裝置 可調 支架 | ||
本實用新型公開了一種灌注樁樁頂浮漿層破除裝置的可調支架,包括兩根相對平行設置的橫向支桿,兩根橫向支桿之間設置有兩根相對平行設置的縱向支桿,縱向支桿的兩端分別固定連接有橫架滑套且套設在橫向支桿上,兩根縱向支桿之間設置有用于安裝灌注樁樁頂浮漿層破除裝置的機座,機座上固定連接有縱向滑套套設在縱向支桿上,橫向支桿的兩端分別設置有用于對其進行支撐的穩定支架,穩定支架上沿豎直方向轉動連接有升降螺桿以及用于驅動升降螺桿轉動的升降驅動電機,橫向支桿的兩端固定連接有升降支座且螺紋連接在升降螺桿上。本實用新型結構簡單,使用方便可靠,不僅可以在水平方向上調整定位,同時還能夠上下驅動以滿足對灌注樁的鉆進。
技術領域
本實用新型涉及設備安裝支架,具體涉及一種灌注樁樁頂浮漿層破除裝置的可調支架。
背景技術
在目前常見的泥漿護壁成孔灌注樁中,很多樁頂標高并不在孔口位置,大部分在孔口下2~3m左右,由于泥漿存在,樁頂的浮漿層比其他工藝的樁頂浮漿層厚,且泥漿會阻擋視線,導致澆筑時不能精準掌握浮漿層標高面。部分施工場地由于地質原因須采用泥漿護壁成孔技術施工基坑支護樁,其必須等待基坑支護達到強度后才能進行土方開挖破除樁頭,在等待樁體強度達到后在進行開挖處理樁頭,在進度安排上將會產生較長施工間歇,影響工期。另外,在地面標高處理樁頂浮漿時,樁頂標高較低且上覆大量泥漿及浮漿,人工清理速度緩慢,且由于部分樁孔直徑不大的情況下,人工清理浮漿非常困難且難以保證質量。
為了解決上述技術問題,發明人發明一種泥漿護壁成孔灌注樁樁頂浮漿層破除裝置,包括旋轉驅動電機和電機支架,旋轉驅動電機安裝在電機支架上,旋轉驅動電機的下方設置有轉動桿且與其傳動連接,轉動桿的下端固定連接有刀座,刀座的下表面為水平設置的鉆頭安裝面,鉆頭安裝面上固定連接有與轉動桿同中心線設置的中心鉆頭,中心鉆頭為筒狀結構且開口向下設置,中心鉆頭且位于開口的一端邊緣為鋸齒狀邊緣,鉆頭安裝面上還安裝有以中心鉆頭中心線為對稱軸對稱設置的側邊鉆Ⅰ,側邊鉆Ⅰ包括多個沿中心鉆頭徑向方向均勻間隔固定連接在刀座上的柱形鉆頭Ⅰ,柱形鉆頭Ⅰ的中心線平行于中心鉆頭的中心線,柱形鉆頭Ⅰ的下端為錐形結構,鉆頭安裝面上還安裝有以中心鉆頭中心線為對稱軸對稱設置的側邊鉆Ⅱ,側邊鉆Ⅱ包括多個沿中心鉆頭徑向方向均勻間隔固定連接在刀座上的柱形鉆頭Ⅱ,柱形鉆頭Ⅱ的中心線平行于中心鉆頭的中心線,柱形鉆頭Ⅱ的下端為錐形結構,中心鉆頭的下端、柱形鉆頭Ⅰ的下端與柱形鉆頭Ⅱ的下端位于同一水平面上,所有的柱形鉆頭Ⅰ所在平面與所有的柱形鉆頭Ⅱ所在平面相互垂直,側邊鉆Ⅰ中且位于其最內側的柱形鉆頭Ⅰ與中心鉆頭之間的間距小于側邊鉆Ⅱ中且位于其最內側的柱形鉆頭Ⅱ與中心鉆頭之間的間距,所有的柱形鉆頭Ⅰ繞中心鉆頭中心線轉動的轉動軌跡與所有的柱形鉆頭Ⅱ繞中心鉆頭中心線轉動的轉動軌跡相互交錯間隔設置,側邊鉆Ⅰ中且位于其最內側的柱形鉆頭Ⅰ至中心鉆頭之間的間距與柱形鉆頭Ⅰ繞中心鉆頭中心線轉動的轉動軌跡至其相鄰柱形鉆頭Ⅱ繞中心鉆頭中心線轉動的轉動軌跡之間的間距一致,通過旋轉驅動電機帶動刀座轉動進而對樁頭進行破除。但是其中的電機支架應該如何設置,才能夠具有使刀座與灌注樁完成定位以及驅使刀座朝向灌注樁方向鉆進的功能,這個又是進一步值得考慮的問題。
實用新型內容
針對上述現有技術的不足,本實用新型所要解決的技術問題是:如何提供一種能夠調節灌注樁樁頂浮漿層破除裝置與灌注樁的定位操作,同時能夠驅動灌注樁樁頂浮漿層破除裝置朝向灌注樁鉆進的可調支架。
為了解決上述技術問題,本實用新型采用了如下的技術方案:
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