[實(shí)用新型]一種消畸變的點(diǎn)陣投射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020443913.1
• 申請(qǐng)日: 2020-03-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN211905878U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳馳;李安;魯亞?wèn)|;黃若普
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市安思疆科技有限公司
• 主分類號(hào): G02B27/42
• 分類號(hào): G02B27/42;G03B15/02
• 代理公司: 杭州天勤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33224
• 代理人: 米志鵬

1.一種消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，包括陣列光源、逆掃描透鏡和衍射光學(xué)元件，其特征在于：

所述陣列光源發(fā)出的第一光束經(jīng)逆掃描透鏡出射為第二光束，所述第二光束經(jīng)衍射光學(xué)元件復(fù)制為出射的第三光束；所述第二光束的視場(chǎng)角α和第三光束的視場(chǎng)角γ存在約束關(guān)系：α0.8γ。

2.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述的陣列光源包括若干子光源，每個(gè)子光源發(fā)射一束子光束，所有出射的子光束組成所述的第一光束。

3.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述的陣列光源為vcsel陣列光源。

4.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述的逆掃描透鏡為單透鏡或多個(gè)透鏡組成的透鏡組。

5.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述衍射光學(xué)元件的視場(chǎng)角β5°。

6.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述的衍射光學(xué)元件的表面微結(jié)構(gòu)按照隨機(jī)相位分布。

7.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述的陣列光源由多個(gè)單體的激光發(fā)射器排列組成。

8.如權(quán)利要求1所述的消畸變的點(diǎn)陣投射裝置，其特征在于，所述的陣列光源由多個(gè)獨(dú)立控制的子陣列光源組成。