[實用新型]一種低濃度硫化氫氣體處理裝置

有效

• 申請號: 202020410011.8
• 申請日: 2020-03-26
• 公開（公告）號: CN212188474U
• 公開（公告）日: 2020-12-22
• 發明（設計）人: 段文杰;田振邦;李振峰;王民川;趙亮;黃偉慶;黃做華;賈俊俊;陳繼紅;王俊
• 申請（專利權）人: 河南中白環境科學技術研究院有限公司;河南省科學院化學研究所有限公司
• 主分類號: B01D53/04
• 分類號: B01D53/04;B01J20/34
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 劉穎

1.一種低濃度硫化氫氣體處理裝置，其特征在于，包括凈化設備、再生液儲槽、再生液噴淋系統和過氧化氫儲罐和過氧化氫投加系統；

所述凈化設備的下方設置有再生液儲槽，上方設置有再生液噴淋系統，所述再生液儲槽和再生液噴淋系統之間通過管道相連通；

所述過氧化氫投加系統用于向所述再生液儲槽中輸送過氧化氫；

所述凈化設備包括多個濾層，所述多個濾層平行設置，相鄰濾層之間具有空隙，形成多個平行的氣體通道，所述硫化氫廢氣平行氣體通道通入；

任意兩個相鄰的氣體通道中，其中一個氣體通道的進氣口密封，另一個氣體通道的排氣口密封。

2.根據權利要求1所述的低濃度硫化氫氣體處理裝置，其特征在于，所述濾層的厚度為1～10mm。

3.根據權利要求1所述的低濃度硫化氫氣體處理裝置，其特征在于，所述相鄰濾層之間的空隙的寬度為20～100mm。

4.根據權利要求1所述的低濃度硫化氫氣體處理裝置，其特征在于，所述濾層的個數為5～100個。

5.根據權利要求1所述的低濃度硫化氫氣體處理裝置，其特征在于，所述再生液儲槽底部設置有再生液出口，所述再生液出口處設置有再生液循環攪拌泵，

所述再生液循環攪拌泵設置有兩個出口，一個與所述再生液噴淋系統相連通用于向再生液噴淋系統中輸送再生液；另一個出口連接有再生液回流管道，用于對過氧化氫與再生液的混合液進行回流。

6.根據權利要求1所述的低濃度硫化氫氣體處理裝置，其特征在于，所述過氧化氫投加系統包括過氧化氫儲罐和過氧化氫投加泵；

所述過氧化氫儲罐的底部設置有過氧化氫出口，所述過氧化氫出口處設置有過氧化氫投加泵，用于將所述過氧化氫儲罐中的過氧化氫泵送至所述再生液儲槽中。