[實用新型]光學系統、取像模組及電子設備有效
| 申請號: | 202020406412.6 | 申請日: | 2020-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN211741697U | 公開(公告)日: | 2020-10-23 |
| 發明(設計)人: | 華露;李明;楊健;鄒海榮 | 申請(專利權)人: | 南昌歐菲精密光學制品有限公司 |
| 主分類號: | G02B13/00 | 分類號: | G02B13/00;G02B13/18;H04N5/225 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 劉欣 |
| 地址: | 330200 江西省南昌市南昌*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學系統 模組 電子設備 | ||
本實用新型涉及一種光學系統、取像模組及電子設備。光學系統包括具有正屈折力的第一透鏡,第一透鏡的物側面于近軸處為凸面。具有屈折力的第二透鏡。具有屈折力的第三透鏡,第三透鏡的像側面于近軸處為凹面。具有屈折力的第四透鏡。具有屈折力的第五透鏡,第五透鏡的物側面于近軸處為凸面,像側面于近軸處為凹面。具有負屈折力的第六透鏡,第六透鏡的像側面于近軸處為凹面,物側面與像側面均為非球面,第六透鏡的物側面及像側面中的至少一個存在反曲點。且光學系統滿足關系式:1<|SAG62|/CT6<2。其中,SAG62為第六透鏡的像側面矢高,CT6為第六透鏡于光軸上的厚度。上述光學系統,光線能夠良好地會聚于成像面進行成像,提高光學系統的成像質量。
技術領域
本實用新型涉及攝像領域,特別是涉及一種光學系統、取像模組及電子設備。
背景技術
目前,智能手機等電子設備對小型化設計的要求越來越高,為匹配電子設備小型化設計的要求,應用于電子設備中的光學系統的系統尺寸也在不斷的縮短。但是,目前的光學系統,在縮短系統總長的同時,通常會改變系統的成像面上的光線的入射角度,導致光線難以良好地會聚于系統的成像面上成像,進而影響光學系統的成像質量。
實用新型內容
基于此,有必要針對目前的光學系統中光線難以良好地會聚于系統的成像面上成像的問題,提供一種光學系統、取像模組及電子設備。
一種光學系統,包括:
具有正屈折力的第一透鏡,所述第一透鏡的物側面于近軸處為凸面;
具有屈折力的第二透鏡;
具有屈折力的第三透鏡,所述第三透鏡的像側面于近軸處為凹面;
具有屈折力的第四透鏡;
具有屈折力的第五透鏡,所述第五透鏡的物側面于近軸處為凸面,所述第五透鏡的像側面于近軸處為凹面;
具有負屈折力的第六透鏡,所述第六透鏡的像側面于近軸處為凹面,所述第六透鏡的物側面與像側面均為非球面,所述第六透鏡的物側面及像側面中的至少一個存在反曲點;
且所述光學系統滿足以下關系式:
1<|SAG62|/CT6<2;
其中,SAG62為所述第六透鏡的像側面矢高,CT6為所述第六透鏡于光軸上的厚度。
上述光學系統,當|SAG62|/CT6>2時,所述第六透鏡的像側面的斜率變化較大,在對所述第六透鏡的像側面進行鍍膜時,容易造成鍍膜不均勻,進而導致光線經所述光學系統到達成像面進行成像時,因不均勻鍍膜對光線的反射作用而形成雜散光。當|SAG62|/CT6<1時,所述第六透鏡的像側面較平緩,會增大成像時到達成像面上的光線的入射角度,導致光線無法良好地在系統的成像面上會聚,進而降低所述光學系統的成像質量。而滿足上述關系式時,能夠對所述第六透鏡進行合理配置,以減小到達成像面上的光線的入射角度,進而使光線能夠更良好地會聚于成像面進行成像,同時有效控制最大視場的邊緣光線在第六透鏡的物側面的入射角,避免主光線于成像面上的入射角過大而導致成像質量下降。進而提高所述光學系統的成像質量。另外,所述第六透鏡的物側面與像側面均為非球面,能夠校正所述光學系統的球差,而所述第六透鏡的物側面及像側面中的至少一個存在反曲點,能夠修正離軸視場的像差,進一步提高所述光學系統的成像質量。
在其中一個實施例中,所述光學系統滿足以下關系式:
SAG52/CT5<1.2;
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