[實(shí)用新型]一種蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020396905.6
• 申請(qǐng)日: 2020-03-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN211921676U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-11-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王浩;祝曉釗;朱凱;梁艦;王徐亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇集萃有機(jī)光電技術(shù)研究所有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 胡彬

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括：

儲(chǔ)料機(jī)構(gòu)，包括儲(chǔ)料腔體(11)和儲(chǔ)料加熱單元，所述儲(chǔ)料腔體(11)的上端設(shè)置有儲(chǔ)料進(jìn)料口(111)，所述儲(chǔ)料腔體(11)的下端設(shè)置有儲(chǔ)料出料口(112)，所述儲(chǔ)料腔體(11)用于盛放待添加的固體材料，所述儲(chǔ)料加熱單元用于將所述固體材料加熱至熔融態(tài)；

送料機(jī)構(gòu)，包括連通器(31)和送料加熱單元(32)，所述連通器(31)的一端與所述儲(chǔ)料出料口(112)相連通以使所述熔融態(tài)材料能夠流入所述連通器(31)，所述送料加熱單元(32)用于將所述連通器(31)內(nèi)的所述熔融態(tài)材料加熱保持溫度均勻；

蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，包括蒸發(fā)腔體，所述蒸發(fā)腔體的下端設(shè)置有與所述連通器(31)的另一端相連通的蒸發(fā)進(jìn)料口(211)，所述蒸發(fā)腔體的上端設(shè)置有蒸發(fā)出料口(212)，所述送料機(jī)構(gòu)輸送來(lái)的材料能夠進(jìn)入所述蒸發(fā)腔體并轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，所述氣態(tài)材料從所述蒸發(fā)出料口(212)排出。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)料腔體(11)的出料口形狀為上寬下窄的筒狀，所述儲(chǔ)料出料口(112)設(shè)置在所述儲(chǔ)料腔體(11)的縮口端。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)料加熱單元包括加熱件(12)，所述加熱件(12)設(shè)置在所述儲(chǔ)料出料口(112)處，用于將所述儲(chǔ)料出料口(112)處的固體材料加熱至熔融態(tài)，以控制出料口的進(jìn)料能力。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述加熱件(12)為加熱網(wǎng)(121)，所述加熱網(wǎng)(121)設(shè)置在所述儲(chǔ)料出料口(112)處且其外壁與所述儲(chǔ)料出料口(112)的內(nèi)壁固定連接，所述熔融態(tài)材料能夠通過(guò)所述加熱網(wǎng)(121)上的網(wǎng)孔流入所述連通器(31)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述加熱件(12)為加熱板(122)，所述加熱板(122)上設(shè)置有漏料孔，所述加熱板(122)設(shè)置在所述儲(chǔ)料出料口(112)處且其外壁與所述儲(chǔ)料出料口(112)的內(nèi)壁固定連接，所述熔融態(tài)材料能夠通過(guò)所述加熱板(122)上的漏料孔流入所述連通器(31)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述漏料孔設(shè)置有擋片和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠控制所述擋片遮擋所述漏料孔，以控制所述漏料孔的大小。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)料機(jī)構(gòu)還包括震動(dòng)件(14)，所述震動(dòng)件(14)安裝在所述儲(chǔ)料腔體(11)上，用于振動(dòng)所述儲(chǔ)料腔體(11)以使所述儲(chǔ)料腔體(11)內(nèi)的固體材料流至所述儲(chǔ)料出料口(112)處。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述震動(dòng)件(14)設(shè)置在所述儲(chǔ)料出料口(112)處。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述送料加熱單元(32)包括加熱罩，所述加熱罩包裹在所述連通器(31)的外壁上。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，當(dāng)所述蒸發(fā)腔體為點(diǎn)源蒸發(fā)腔體(213)時(shí)，所述連通器(31)的進(jìn)料口高度大于所述連通器(31)出料口的高度，且所述儲(chǔ)料出料口(112)的高度大于所述蒸發(fā)進(jìn)料口(211)的高度，所述儲(chǔ)料出料口(112)的高度小于所述蒸發(fā)出料口(212)的高度；

當(dāng)所述蒸發(fā)腔體為線源蒸發(fā)腔體(214)時(shí)，所述蒸發(fā)機(jī)構(gòu)還包括加熱腔體(215)，所述線源蒸發(fā)腔體(214)通過(guò)所述加熱腔體(215)與所述連通器(31)的出料口相連通，且所述儲(chǔ)料出料口(112)的高度大于所述加熱腔體(215)的進(jìn)料口的高度，所述儲(chǔ)料出料口(112)的高度小于所述加熱腔體(215)的出料口的高度。