[實用新型]等離子體反應設備

有效

• 申請號: 202020384604.1
• 申請日: 2020-03-24
• 公開（公告）號: CN211828678U
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 王雙印;陶李
• 申請（專利權）人: 湖南大學
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉佩

1.一種等離子體反應設備，其特征在于，包括：

工作臺；

反應倉，可轉動地裝配于所述工作臺，且具有反應腔；

真空模組，對所述反應腔抽真空；

送氣模塊，向所述反應腔輸送氣體；

射頻模組，圍設于所述反應倉外周，向所述反應腔發射射頻波；以及

驅動件，對所述反應倉提供旋轉驅動力，所述反應倉在所述驅動件的驅動下相對所述工作臺轉動。

2.根據權利要求1所述的等離子體反應設備，其特征在于，還包括攪拌件，所述攪拌件凸出設置于所述反應腔內。

3.根據權利要求1或2所述的等離子體反應設備，其特征在于，所述反應倉可拆卸地裝配于所述工作臺。

4.根據權利要求1或2所述的等離子體反應設備，其特征在于，所述反應倉包括反應段和安裝段，所述反應段和所述安裝段沿所述反應倉的旋轉軸線所在的第一方向分布，且所述安裝段支撐于所述工作臺上；

其中，所述反應段在垂直所述第一方向橫截面內的截面積，大于所述安裝段在垂直所述第一方向橫截面內的截面積。

5.根據權利要求1所述的等離子體反應設備，其特征在于，所述射頻模組包括射頻電源和射頻線圈，所述射頻線圈繞設于所述反應倉外周，所述射頻電源設于所述工作臺并與所述射頻線圈電連接。

6.根據權利要求5所述的等離子體反應設備，其特征在于，所述射頻模組還包括輻射屏蔽罩，所述輻射屏蔽罩套設于所述射頻線圈背向所述反應倉的外周。

7.根據權利要求1或2所述的等離子體反應設備，其特征在于，所述真空模組包括真空泵和真空計，所述真空泵與所述反應腔可選擇地通斷，用于對所述反應腔抽真空，所述真空計與所述反應腔連通，用于檢測所述反應腔內的壓力。

8.根據權利要求1或2所述的等離子體反應設備，其特征在于，還包括冷卻系統，所述冷卻系統與所述射頻模組之間冷卻換熱。

9.根據權利要求1或2所述的等離子體反應設備，其特征在于，所述驅動件為可輸出旋轉運動的磁流體密封件。

10.根據權利要求1或2所述的等離子體反應設備，其特征在于，還包括控制器，所述控制器與所述真空模組、所述送氣模塊、所述射頻模組及所述驅動件通信連接，所述控制器控制所述真空模組、所述送氣模塊、所述驅動件及所述射頻模組依次開啟。