[實(shí)用新型]機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020383923.0
• 申請(qǐng)日: 2020-03-23
• 公開（公告）號(hào): CN212076741U
• 公開（公告）日: 2020-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳前海泰揚(yáng)環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/12
• 分類號(hào): C02F9/12;C02F101/20
• 代理公司: 深圳余梅專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44519
• 代理人: 鐘火軍

1.一種機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，包括用于吸附金屬粉末的磁分離槽，用于沉降顆粒物的混凝槽以及用于固液分離的旋流分離槽；所述磁分離槽位于混凝槽的一側(cè)，所述旋流分離槽位于混凝槽另一側(cè)，所述磁分離槽內(nèi)設(shè)有用于吸附金屬粉末的金屬吸收器，所述磁分離槽與混凝槽通過(guò)設(shè)有的第一進(jìn)水口連通，所述旋流分離槽內(nèi)設(shè)有旋流器，所述旋流器包括進(jìn)水管和旋流盤，所述進(jìn)水管的頂部與混凝槽連通，進(jìn)水管的底部與旋流盤連通，所述旋流盤沿其徑向設(shè)有旋流板，進(jìn)水管內(nèi)的廢水打在旋流板上并向上飛濺并形成旋流。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置還包括集水槽，所述集水槽包括初級(jí)沉降槽和均量槽，所述初級(jí)沉降槽和均量槽之間通過(guò)設(shè)有的T形過(guò)水管連通，所述均量槽通過(guò)設(shè)有的第一出水管與磁分離槽連接，均量槽內(nèi)的廢水通過(guò)第一出水管進(jìn)入磁分離槽內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述均量槽內(nèi)設(shè)有第一液位控制器，所述第一出水管的一端連接有提升泵，所述第一液位控制器與提升泵連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述金屬吸收器轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在磁分離槽內(nèi)，所述金屬吸收器連接有用于檢測(cè)金屬吸收器重力的重力感應(yīng)器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述混凝槽內(nèi)設(shè)有攪拌器，所述混凝槽的頂部設(shè)有酸液投加器，PAC投加器，PAM投加器中的一種或者多種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置還包括中間槽，所述旋流分離槽的頂部?jī)?nèi)壁設(shè)有環(huán)形的出水堰，所述出水堰與中間槽連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置還包括過(guò)濾器，所述過(guò)濾器與中間槽通過(guò)設(shè)有第二出水管連通，所述第二出水管連接有過(guò)濾反洗一體水泵，所述中間槽內(nèi)設(shè)有第二液位控制器，所述第二液位控制器與過(guò)濾反洗一體水泵連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述旋流器的底部設(shè)有漏斗，所述漏斗的頂部設(shè)有支撐旋流盤的支撐塊。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械研磨廢水處理及回用裝置，其特征在于，所述金屬吸收器為磁性件。