[實用新型]一種三級式離子除臭裝置

有效

• 申請號: 202020378233.6
• 申請日: 2020-03-23
• 公開（公告）號: CN212017355U
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: 胡媛媛;盛沛;胡彥雄;賈浩力;翁利乾
• 申請（專利權）人: 武漢惠斯頓環保科技有限公司
• 主分類號: B01D53/75
• 分類號: B01D53/75;B01D53/86;B01D53/74;B01D53/32;B01D53/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 王煥

本實用新型提供了一種三級式離子除臭裝置，所述三級式離子除臭裝置內部包括依次連接的UV光催化裝置、等離子裂解裝置和吸附裝置。本實用新型所提供的裝置，采用UV光催化技術結合等離子裂解技術，形成復合氧化體系，使裝置的氧化能力呈幾何倍數增長。UV光催化裝置采用兩種不同的波長段的兩種紫外線進行照射，針對有機物的不同形態取得不同的氧化效果。采用后置活性炭吸附工藝，強化氨與硫化氫等無機物的去除，使離子除臭裝置可單獨使用。本實用新型所提供的裝置，三段工藝都集成于一套設備內部，無中間連接管道，具有風阻小、占地省、投資低等優點。

技術領域

本實用新型涉及除臭裝置技術領域，具體而言，涉及一種三級式離子除臭裝置。

背景技術

臭氣的氧化技術主要是通過產生大量具有很強氧化性的正、負氧離子，能在極短的時間內氧化、分解甲硫醇、醚類、胺類等污染臭氣因子，打開有機揮發性氣體的化學鍵，最終生成二氧化碳和水等穩定無害的小分子，從而達到凈化空氣的目的。

目前存在的的臭氣化學氧化技術主要有以下兩種：

(1)等離子裂解技術：等離子體是繼固態、液態、氣態之后物質的第四態，當外加電壓達到氣體的著火電壓時，氣體被擊穿，產生包括電子、各種離子、原子和自由基在內的混合體。放電過程中雖然電子溫度很高，但重粒子溫度很低，整個體系呈現低溫狀態，所以稱為低溫等離子體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用，是污染物分子在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到分解污染物的目的。

低溫等離子除臭裝置是通過在設備內部設置電極，高壓放電后電離空氣產生具有氧化性的等離子體的技術，由于很容易使污染物分子高效分解且處理能耗低等特點，是目前國內大氣污染治理中行之有效的技術方法之一

(2)UV光催化技術：UV光催化是在設備內部設置UV紫外燈管照射，輔以Ti0₂作為催化劑的光催化過程，該技術反應條件溫和，光解迅速、產物為CO₂、H₂O和其他，而且適用范圍廣，包括烴、醇、醛、酮等有機物，都能通過UV光催化清除。

其機理主要是光催化劑二氧化鈦吸收光子，其表面產生羥基自由基(·OH)和活性氧物質(·O、H₂O₂),其中羥基自由基(·OH)是光催化反應的一種主要的活性物質，對光催化氧化取決定作用。羥基自由基120kj/mol的反應能，高于有機物的各類化學鍵能，如：C-C(83kj/mol)、C-H(99KJ/mol)、C-N(73KJ/mol)、C-O(84KJ/mol)、H-O(111KJ/mol)、N-H(93KJ/mol)，因而能迅速有效地分解揮發性有機物，再加上其他活性氧有機物質(·O、H₂O₂)的協同作用，其殺菌效果更為迅速。

但是，因除臭設備技術要求決定，化學氧化除臭技術臭氣停留時間一般控制在2s左右，在此停留時間的情況下，等離子裂解技術與UV光催化技術基本上達不到將臭氣里的污染物徹底降解成CO₂與H₂O等最終穩定形態，多為中間產物或小分子有機物，處理不夠徹底。另外，因除臭的產氣特點，化學氧化除臭技術的反應條件為常溫、常壓，在此條件下，對臭氣中的氨與硫化氫類無機物降解效果較差，而實際上，臭氣中均含有不同濃度的氨與硫化氫，導致化學氧化除臭均需配套其他的氨與硫化氫強化處理工藝。

有鑒于此，特提出本實用新型。

實用新型內容

本實用新型所提供的一種三級式離子除臭裝置，內部包括依次連接的UV光催化裝置、等離子裂解裝置和吸附裝置，采用UV光催化技術結合等離子裂解技術，形成復合氧化體系，使裝置的氧化能力呈幾何倍數增長，并且結合活性炭吸附裝置，強化氨與硫化氫等無機物的去除，并且該裝置三段工藝都集成于一套設備內部，無中間連接管道，具有風阻小、占地省、投資低等優點。