[實用新型]封裝結構和半導體器件有效
| 申請號: | 202020375074.4 | 申請日: | 2020-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN211555854U | 公開(公告)日: | 2020-09-22 |
| 發明(設計)人: | 王蔚;錢孝清;杜鵬;沈戌霖 | 申請(專利權)人: | 蘇州晶方半導體科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/29 | 分類號: | H01L23/29;H01L23/31;H01L23/538;H01L21/48;H01L21/78 |
| 代理公司: | 南京利豐知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 于保妹 |
| 地址: | 215000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 封裝 結構 半導體器件 | ||
本實用新型揭示了一種封裝結構和半導體器件,該封裝結構包括:芯片單元,包括襯底以及位于襯底表面的客戶層,定義所述客戶層背離所述襯底的表面為第一表面,所述襯底背離所述客戶層的表面為第二表面,所述客戶層內形成有焊墊;焊接凸起,形成于芯片單元的第二表面;金屬布線層,電性連接于所述焊墊和焊接凸起之間;絕緣層,形成于所述金屬布線層和芯片單元之間,所述絕緣層包括依次形成于所述芯片單元表面的二氧化硅層和Si3N4層。本實用新型封裝結構的絕緣層采用SiO2+Si3N4+環氧樹脂三層結構,通過該種結構,不僅可以大大提高濕氣的隔絕效果,且本身抗應力強度也大大提高。
技術領域
本實用新型屬于半導體技術領域,具體涉及一種封裝結構、半導體器件,特別適用于40nm及以下Low-k(低介電損耗常數)芯片TSV(硅通孔技術)封裝。
背景技術
晶圓級芯片封裝(WaferLevel Chip size Packaging,WLCSP)技術是對整片晶圓進行封裝測試后再切割得到單個成品芯片的技術,封裝后的芯片尺寸與裸片一致。晶圓級芯片封裝技術顛覆了傳統封裝如陶瓷無引線芯片載具(Ceramic Leadless ChipCarrier)、有機無引線芯片載具(Organic Leadless ChipCarrier)的模式,順應了市場對微電子產品日益輕、小、短、薄化和低價化要求。經晶圓級芯片封裝技術封裝后的芯片達到了高度微型化,芯片成本隨著芯片的減小和晶圓尺寸的增大而顯著降低。晶圓級芯片封裝技術是可以將IC設計、晶圓制造、封裝測試、整合為一體的技術,是當前封裝領域的熱點和發展趨勢。
現有技術中,TSV封裝常以SiO2或環氧樹脂等有機材料作絕緣層。但有機材料CTE(熱膨脹系數)較大,對芯片及其焊墊的應力作用比較明顯,容易導致焊墊本身的崩裂或附近客戶層的斷裂。
實用新型內容
本實用新型一實施例提供一種封裝結構、半導體器件,用于解決現有技術中由于絕緣層CTE較大,導致焊墊本身的崩裂或附近客戶層的斷裂的問題,包括:
一種封裝結構,包括:
芯片單元,包括襯底以及位于襯底表面的客戶層,定義所述客戶層背離所述襯底的表面為第一表面,所述襯底背離所述客戶層的表面為第二表面,所述客戶層內形成有焊墊;
焊接凸起,形成于芯片單元的第二表面;
金屬布線層,電性連接于所述焊墊和焊接凸起之間;
絕緣層,形成于所述金屬布線層和芯片單元之間,所述絕緣層包括依次形成于所述芯片單元表面的二氧化硅層和Si3N4層。
一實施例中,所述二氧化硅層與焊墊之間連接,和/或
所述Si3N4層與焊墊之間連接。
一實施例中,所述絕緣層還包括形成于所述Si3N4層和金屬布線層之間的環氧樹脂層。
一實施例中,還包括貫穿所述襯底的通孔,所述通孔暴露出所述焊墊;
所述絕緣層延伸于所述芯片單元第二表面和所述通孔的側壁。
一實施例中,還包括阻焊層,阻焊層至少形成于所述金屬布線層表面,所述阻焊層具有暴露出部分所述金屬布線層的開孔,所述焊接凸起填充所述開孔,并暴露在所述阻焊層表面之外。
一實施例中,所述芯片單元的第一表面具有功能結構,所述封裝結構還包括:
基板,覆蓋所述芯片單元的第一表面;
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