[實(shí)用新型]X光屏蔽裝置及X光檢查裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020346647.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN212788526U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州美諾瓦醫(yī)療科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61B6/10 | 分類號(hào): | A61B6/10;A61B6/00 |
| 代理公司: | 杭州裕陽(yáng)聯(lián)合專利代理有限公司 33289 | 代理人: | 田金霞 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州市濱江區(qū)濱康路*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 屏蔽 裝置 檢查 | ||
1.一種X光屏蔽裝置,其特征在于,包括:屏蔽板支撐結(jié)構(gòu)、可移動(dòng)的屏蔽板、用于驅(qū)動(dòng)屏蔽板的動(dòng)力設(shè)備、運(yùn)動(dòng)控制器和與運(yùn)動(dòng)傳感器相連的屏蔽裝置控制信號(hào)輸入接口,
所述屏蔽板活動(dòng)安裝在屏蔽板支撐結(jié)構(gòu)上,且利用動(dòng)力設(shè)備驅(qū)動(dòng)屏蔽板發(fā)生移動(dòng),所述屏蔽板用于遮擋X光,屏蔽板之間形成了大小及位置均可變的可變透光口,所述可變透光口為X光的穿行通道;運(yùn)動(dòng)控制器與動(dòng)力設(shè)備電連接,利用屏蔽裝置控制信號(hào)輸入接口獲取的控制信號(hào),控制動(dòng)力設(shè)備調(diào)節(jié)屏蔽板的位置,從而確定可變透光口的開(kāi)口位置,使得所述可變透光口的位置、大小與X光的照射區(qū)域的位置、大小一致。
2.如權(quán)利要求1所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,還包括:高度傳感器,所述高度傳感器安裝于X光檢查裝置的機(jī)架上方,用于檢測(cè)X光檢查裝置的機(jī)架高度;所述運(yùn)動(dòng)控制器與高度傳感器電連接,運(yùn)動(dòng)控制器實(shí)時(shí)獲取高度傳感器的高度數(shù)據(jù),通過(guò)調(diào)節(jié)屏蔽板的高度確定可變透光口的開(kāi)口位置。
3.如權(quán)利要求2所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,還包括高度檢測(cè)連桿,所述高度檢測(cè)連桿的一端活動(dòng)連接在屏蔽板支撐結(jié)構(gòu)上,另一端設(shè)置有高度傳感器,通過(guò)選擇/伸縮所述高度檢測(cè)連桿,使得所述高度傳感器可移動(dòng)到X光檢查裝置的機(jī)架上方。
4.如權(quán)利要求2所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,還包括可定型萬(wàn)向管,所述可定型萬(wàn)向管的一端連接在屏蔽板支撐結(jié)構(gòu)上,另一端設(shè)置有高度傳感器,通過(guò)彎曲所述可定型萬(wàn)向管,使得所述高度傳感器可移動(dòng)到X光檢查裝置的機(jī)架上方。
5.如權(quán)利要求1所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,所述屏蔽裝置控制信號(hào)輸入接口與X光機(jī)的控制電腦或DR工作站的電腦相連。
6.如權(quán)利要求1所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,所述屏蔽裝置控制信號(hào)輸入接口與X光發(fā)射裝置的運(yùn)動(dòng)控制器相連。
7.如權(quán)利要求1所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,所述屏蔽裝置控制信號(hào)輸入接口為有線輸入接口或無(wú)線傳輸模塊。
8.如權(quán)利要求1所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,所述屏蔽板包括上下兩塊屏蔽板,通過(guò)上下兩塊屏蔽板的高度調(diào)節(jié),實(shí)現(xiàn)可變透光口的調(diào)節(jié)。
9.如權(quán)利要求8所述的X光屏蔽裝置,其特征在于,所述屏蔽板還包括左右兩塊屏蔽板,通過(guò)左右兩塊屏蔽板的水平位置調(diào)節(jié),實(shí)現(xiàn)可變透光口的寬度調(diào)節(jié)和中心位調(diào)節(jié)。
10.一種X光檢查裝置,其特征在于,包括:如權(quán)利要求1~9任意一項(xiàng)所述的X光屏蔽裝置、X光發(fā)射裝置、X光探測(cè)裝置,其中所述X光屏蔽裝置位于X光發(fā)射裝置和X光探測(cè)裝置之間,且X光屏蔽裝置和X光探測(cè)裝置之間的區(qū)域用于容納受檢者。
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