[實用新型]氣體殺菌消毒裝置、氧艙消毒系統及負壓隔離艙消毒系統

有效

• 申請號: 202020305999.1
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN212789232U
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 梁瑞民;李旭興;王文捷
• 申請（專利權）人: 珠海市優氧健康產業有限公司
• 主分類號: A61L9/015
• 分類號: A61L9/015;A61L9/14;A61L9/16;A61L9/20;A61L101/10;A61L101/06
• 代理公司: 珠海智專專利商標代理有限公司 44262
• 代理人: 林永協;吳志鴻

1.氣體殺菌消毒裝置，其特征在于，包括：

一級液體消毒裝置，所述一級液體消毒裝置包括第一儲存容器和消毒液，所述消毒液的液面與所述第一儲存容器的頂壁相距第一預設距離；

二級氣體消毒裝置，所述二級氣體消毒裝置包括第二儲存容器和臭氧發生器，所述臭氧發生器向所述第二儲存容器內輸送臭氧氣體；

三級光波消毒裝置，所述三級光波消毒裝置包括第三儲存容器和紫外線燈，所述紫外線燈設置在所述第三儲存容器內，所述第三儲存容器上設有第一出氣口；

第一管道，所述第一管道的第一端設有進氣口，所述第一管道的第二端插入所述第一儲存容器內并位于所述消毒液的液面以下；

第二管道，所述第二管道的第一端插入所述第一儲存容器內并位于所述消毒液的液面以上，所述第二管道的第二端與第二儲存容器連通；

第三管道，所述第三管道的兩端分別與所述第二儲存容器和所述第三儲存容器連通。

2.根據權利要求1所述的氣體殺菌消毒裝置，其特征在于：

所述消毒液為含氯消毒劑。

3.根據權利要求1或2所述的氣體殺菌消毒裝置，其特征在于：

所述氣體殺菌消毒裝置還包括四級高溫消毒裝置和第四管道，所述四級高溫消毒裝置包括第四儲存容器和加熱控溫裝置，所述第四儲存容器內設有水和第二出氣口，所述水的液面與所述第四儲存容器的頂壁相距第二預設距離，所述第二出氣口位于所述水的液面以上，所述第四管道的第一端位于所述第一出氣口內并與所述第三儲存容器連通，所述第四管道的第二端插入所述第四儲存容器內并位于所述水的液面以下，所述加熱控溫裝置對所述水進行加熱并控溫。

4.根據權利要求3所述的氣體殺菌消毒裝置，其特征在于：

所述水的溫度為70℃以上。

5.根據權利要求4所述的氣體殺菌消毒裝置，其特征在于：

所述四級高溫消毒裝置上還設有第五管道，所述第五管道的第一端位于所述第二出氣口內并與所述第四儲存容器內部連通，所述第五管道的第二端設有擴張部。

6.氧艙消毒系統，其特征在于：包括氧艙和氣體殺菌消毒裝置，所述氣體殺菌消毒裝置為上述權利要求1至5中任一項所述的氣體殺菌消毒裝置，所述氧艙的排氣口與所述氣體殺菌消毒裝置的第一管道連通。

7.根據權利要求6所述的氧艙消毒系統，其特征在于：

所述氧艙設有第六管道，所述第六管道的第一端與所述氧艙的內部連通，所述第六管道的第二端與所述臭氧發生器的臭氧出口連通。

8.根據權利要求7所述的氧艙消毒系統，其特征在于：

所述氧艙包括軟艙和硬艙。

9.負壓隔離艙消毒系統，其特征在于：包括負壓隔離艙和氣體殺菌消毒裝置，所述氣體殺菌消毒裝置為上述權利要求1至5中任一項所述的氣體殺菌消毒裝置，所述負壓隔離艙的排氣口與所述氣體殺菌消毒裝置的第一管道連通。