[實用新型]用于污水處理工藝的反應裝置

有效

• 申請號: 202020297511.5
• 申請日: 2020-03-12
• 公開（公告）號: CN212102462U
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發明（設計）人: 韓文杰;周家中;楊忠啟;吳迪;辛濤;時丹
• 申請（專利權）人: 青島思普潤水處理股份有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14
• 代理公司: 青島智地領創專利代理有限公司 37252
• 代理人: 張紅鳳

1.一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：其包括并排設置的三組反應池，三組反應池的寬度相同；

其中第一組反應池包括第一池體，所述的第一池體內部通過隔墻分隔為四組，分別為A1池、A2池、A3池、A4池，四組池的池容相同，所述的A1池和A2池并排位于所述第一池體的上方，所述的A3池和A4池并排位于所述的第一池體的下方，其中，所述的A1池和A3池為一列，所述的A2池和A4池為一列；

第二組反應池包括第二池體，所述的第二池體排布在所述的A2池和A4池之后；

第三組反應池包括自下而上依次排布的第五池體、第四池體及第三池體，所述的第三池體通過隔墻分隔為兩組，分別為PA1池和PA2池，所述的PA1池位于所述的PA2池的上方；

所述的第一池體上設置有總進水管，所述的第五池體上設置有總出水管；

假設第一池體的面積為S1、總邊長為a和b；第二池體的面積為S2，邊長為a和c；第三池體的面積為S3，總邊長為d和2d；第四池體的面積為S4，邊長為d和e；第五池體的面積為S5,邊長為d和f，所述面積與邊長滿足以下計量關系：

b＝a (1)；

c＝aS2/S1 (2):

2.根據權利要求1所述的一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：當所述邊長d和f之積小于S5時，所述的第一池體內部通過隔墻分隔為上下兩組，所述第一池體的邊長分別為a/2和b。

3.根據權利要求1所述的一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：所述的第一池體為缺氧池，第二池體為好氧池，第三池體為后缺氧池，第四池體為后好氧池，第五池體為磁混凝沉淀池。

4.根據權利要求3所述的一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：位于第一池體的隔墻上均設置有過水口，分別包括A1池與A2池之間的A1池過水口、A3池與A4池之間的A3池過水口；在A2池和第二池體之間、A4池和第二池體之間、第二池體和第三池體之間、第三池體和第四池體之間、第四池體和第五池體之間也設置有隔墻，相對于的隔墻上分別設有A2池過水口、A4池過水口、第二池體過水口、第三池體過水口及第四池體過水口。

5.根據權利要求3所述的一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：位于第三池體的隔墻上設置有PA1池過水口。

6.根據權利要求3所述的一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：在所述的A2池與第二池體之間的隔墻前方、A4池與第二池體之間的隔墻前方，PA2池和第四池體之間的隔墻前方均設置有隔板，每塊隔板距其各自對應的隔墻的水平距離為40cm，每塊隔板其上沿在運行水位以上30cm，下沿低于運行水位的一半，所述運行水位與所述總出水管下沿安裝高度相同。

7.根據權利要求3所述的一種用于污水處理工藝的反應裝置，其特征在于：所述的第二池體的過水口前方設置有攔截篩網，所述的攔截篩網的上沿在運行水位的65％以下，下沿高于運行水位的35％，所述的運行水位，與所述的出水管的下沿安裝高度相同。