[實(shí)用新型]高效清洗消毒設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020294537.4
• 申請(qǐng)日: 2020-03-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN212139228U
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周學(xué)思
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東莞市朗迅智能科技有限公司
• 主分類號(hào): A23N12/02
• 分類號(hào): A23N12/02;A23B7/00;A23B7/015;A23B7/144
• 代理公司: 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102
• 代理人: 羅曉林

本實(shí)用新型高效清洗消毒設(shè)備包括機(jī)架、裝設(shè)在機(jī)架上的清洗腔室、傳送模塊、振動(dòng)模塊及控制模塊，所述清洗腔室內(nèi)設(shè)有至少一個(gè)紫外光光源模塊，所述振動(dòng)模塊與傳送模塊連接，所述傳送模塊通過(guò)所述清洗腔室，振動(dòng)模塊設(shè)于清洗腔室的底部中央，所述紫外光光源模塊、傳送模塊均與控制模塊電連接；所述控制模塊控制紫外光光源模塊的光效和傳送模塊的運(yùn)行；本實(shí)用新型通過(guò)傳送模塊將待清洗的菌類輸送到清洗腔室內(nèi)之后密閉清洗腔，振動(dòng)模塊對(duì)菌類進(jìn)行振動(dòng)清洗將非有機(jī)物與之分離，控制模塊控制紫外光光源模塊的光效，同時(shí)控制臭氧發(fā)生模塊和氣體供給裝置的供給量，使菌類達(dá)到紫外光殺菌的最佳效果，使得清洗消毒后的菌類保質(zhì)期延長(zhǎng)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種對(duì)菌類實(shí)現(xiàn)高效清洗消毒的設(shè)備。

背景技術(shù)

菌類是我們經(jīng)常食用的蔬菜，現(xiàn)代化菌類蔬菜加工的過(guò)程中需要對(duì)菌類進(jìn)行清洗，一般清洗過(guò)程中會(huì)對(duì)菌類的表面造成損失，且殺菌消毒效果不佳，用水清洗之后保鮮和保存的時(shí)間較短。

光清洗是基于光與物質(zhì)相互作用效應(yīng)的一種環(huán)保清洗技術(shù),光清洗具有非接觸、熱效應(yīng)小和消毒效果良好的清洗特點(diǎn)。其中，以紫外光清洗應(yīng)用最為廣泛，由于大多數(shù)有機(jī)物對(duì)紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力，并在吸收紫外光的能量后分解或再合成為可揮發(fā)的氣體脫離被清洗物表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔目的。

紫外光清洗設(shè)備關(guān)鍵的部件為清洗腔室，清洗腔內(nèi)設(shè)置有紫外光源塊。清洗的具體過(guò)程為：在紫外光清洗設(shè)備中，紫外光激發(fā)空氣中的氧氣(O₂)產(chǎn)生活性O(shè)原子和臭氧(O₃)，活性O(shè)原子和O₃氧化基材表面的有機(jī)物產(chǎn)生CO₂和H₂O，從而達(dá)到去除菌類表面有機(jī)物的目的。同時(shí)在光清洗過(guò)程中，紫外光清洗設(shè)備內(nèi)的臭氧濃度是影響清洗結(jié)果的主要因素。其中，菌類表面的非有機(jī)物也需要清洗，因此需要一種能夠進(jìn)行自動(dòng)化清洗完全、滿足殺菌消毒效果的設(shè)備。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的主要目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的以上缺點(diǎn)和不足，提供一種高效清洗消毒設(shè)備。

一種高效清洗消毒設(shè)備，包括機(jī)架、裝設(shè)在機(jī)架上的清洗腔室、傳送模塊、振動(dòng)模塊及控制模塊，所述清洗腔室內(nèi)設(shè)有至少一個(gè)紫外光光源模塊，所述振動(dòng)模塊與傳送模塊連接，所述傳送模塊通過(guò)所述清洗腔室，振動(dòng)模塊設(shè)于清洗腔室的底部中央，所述紫外光光源模塊、傳送模塊均與控制模塊電連接；所述控制模塊控制紫外光光源模塊的光效和傳送模塊的運(yùn)行。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述清洗腔室內(nèi)設(shè)有臭氧發(fā)生模塊和濃度傳感器，所述臭氧發(fā)生模塊和濃度傳感器均與控制模塊電連接，所述控制模塊通過(guò)濃度傳感器檢測(cè)清洗腔室的臭氧濃度控制臭氧發(fā)生模塊的運(yùn)行。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述振動(dòng)模塊為振動(dòng)盤(pán)，所述傳送模塊包括第一傳送模塊和第二傳送模塊，所述振動(dòng)模塊位于第一傳送模塊和第二傳送模塊之間，所述振動(dòng)模塊的上端面為斜面，所述第一傳送模塊的末端高于與振動(dòng)模塊的上端面，所述第二傳送模塊的首端低于與振動(dòng)模塊的上端面。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述振動(dòng)模塊上表面設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述振動(dòng)模塊為若干活塞結(jié)構(gòu)，所述振動(dòng)模塊設(shè)于傳送模塊的下方并抵頂傳送模塊，所述活塞結(jié)構(gòu)包括升降氣缸、與升降氣缸連接的活塞桿及設(shè)在活塞桿頂部的頂塊。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述機(jī)架上設(shè)置有氣體供給裝置，該氣體供給裝置與清洗腔室連通，所述控制模塊控制氣體供給裝置的供給量。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述清洗腔室的兩側(cè)設(shè)置有輸入口和輸出口，所述傳送模塊穿過(guò)輸入口和輸出口，所述輸入口和輸出口上分別設(shè)有閉合裝置，所述控制模塊控制閉合裝置的開(kāi)啟和閉合。

在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述紫外光光源模塊上設(shè)置有反光杯、曲面透鏡、聚光透鏡中的一種或組合。