[實用新型]一種雙面研磨裝置

有效

• 申請號: 202020286917.3
• 申請日: 2020-03-10
• 公開（公告）號: CN212240552U
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發明（設計）人: 曹澤域
• 申請（專利權）人: 西安奕斯偉硅片技術有限公司
• 主分類號: B24B37/08
• 分類號: B24B37/08;B24B37/28;B24B37/34;B24B47/12
• 代理公司: 西安嘉思特知識產權代理事務所(普通合伙) 61230
• 代理人: 劉長春

1.一種雙面研磨裝置，其特征在于，包括：

上定盤(21)；

基準平板(22)，設置在所述上定盤(21)的正上方以形成基準平面；

定盤平衡機構(23)，連接在所述基準平板(22)和所述上定盤(21)之間，且當所述上定盤(21)與所述基準平板(22)之間產生夾角時，對所述上定盤(21)的傾斜位置施加相應的作用力以使所述上定盤(21)處于平衡狀態。

2.如權利要求1所述的雙面研磨裝置，其特征在于，所述定盤平衡機構(23)包括若干彈性部件(231)，若干所述彈性部件(231)在所述上定盤(21)表面均勻分布且呈中心對稱分布。

3.如權利要求2所述的雙面研磨裝置，其特征在于，若干所述彈性部件(231)在所述上定盤(21)表面形成包括第一圓環(2311)、第二圓環(2312)和第三圓環(2313)的同心圓，所述第一圓環(2311)、所述第二圓環(2312)和所述第三圓環(2313)由內至外依次分布。

4.如權利要求3所述的雙面研磨裝置，其特征在于，所述第一圓環(2311)與所述上定盤(21)內邊沿之間的距離、所述第二圓環(2312)與所述第一圓環(2311)之間的距離、所述第二圓環(2312)和所述第三圓環(2313)之間的距離、所述第三圓環(2313)與所述上定盤(21)外邊沿之間的距離均相等。

5.如權利要求1所述的雙面研磨裝置，其特征在于，還包括定盤升降機構(24)，連接于所述基準平板(22)的上表面以帶動所述上定盤(21)、所述基準平板(22)和所述定盤平衡機構(23)沿所述上定盤(21)的中心軸進行上升或下降。

6.如權利要求5所述的雙面研磨裝置，其特征在于，所述定盤升降機構(24)包括若干可伸縮支撐連桿(241)，所述可伸縮支撐連桿(241)的一端連接于所述基準平板(22)的上表面，且若干所述可伸縮支撐連桿(241)在所述基準平板(22)的表面均勻分布。

7.如權利要求6所述的雙面研磨裝置，其特征在于，還包括若干平衡調節裝置(25)，若干所述平衡調節裝置(25)一一對應地安裝在若干所述可伸縮支撐連桿(241)上，所述平衡調節裝置(25)通過調節所述可伸縮支撐連桿(241)的伸縮長度使所有所述可伸縮支撐連桿(241)的長度均相等。

8.如權利要求7所述的雙面研磨裝置，其特征在于，還包括下定盤(26)，設置于所述上定盤(21)的正下方，所述下定盤(26)可隨其旋轉軸進行旋轉以當所述上定盤(21)下降至待研磨件表面時與所述上定盤(21)共同配合對所述待研磨件進行研磨。

9.如權利要求8所述的雙面研磨裝置，其特征在于，還包括上定盤支撐機構(27)和下定盤支撐機構(28)，其中，

所述上定盤支撐機構(27)位于所述上定盤(21)的上方且通過所述定盤升降機構(24)與所述基準平板(22)連接；

所述下定盤支撐機構(28)安裝在所述下定盤(26)的下方以支撐所述下定盤(26)。

10.如權利要求9所述的雙面研磨裝置，其特征在于，還包括基座(29)，其中，所述下定盤支撐機構(28)固定于所述基座(29)上，所述上定盤支撐機構(27)橫跨于所述上定盤(21)的上方且固定至所述下定盤支撐機構(28)兩側的所述基座(29)上。