[實用新型]一種用于生產氰氟草酯的加熱及清理裝置有效
| 申請號: | 202020282743.3 | 申請日: | 2020-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN212017793U | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 尹凱;易苗 | 申請(專利權)人: | 浙江南郊化學有限公司 |
| 主分類號: | B01J19/18 | 分類號: | B01J19/18;C07C253/00;C07C255/54;B08B9/087 |
| 代理公司: | 浙江專橙律師事務所 33313 | 代理人: | 朱孔妙 |
| 地址: | 312000 浙江省紹*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 生產 氰氟草酯 加熱 清理 裝置 | ||
本實用新型涉及化學化工技術領域,具體的說一種用于生產氰氟草酯的加熱及清理裝置,包括底板、反應箱體、清理架和攪拌機構,反應箱體設置于底板上端,且反應箱體和底板之間設有支撐桿,清理架與反應箱體活動連接,攪拌機構設置于反應箱體內,反應箱體內設有反應腔,反應箱體周壁內設有保溫層,反應箱體底部設有加熱塊,加熱塊固定連接有溫控儀表,反應箱體連接有清理桿,清理桿下端固定連接清理刷,清理桿上端固定連接有活動板,活動板與反應箱體之間抵接有彈簧,清理架上端固定連接有橫桿,橫桿上固定連接有第一固定塊,第一固定塊兩側固定連接有第二固定塊,解決了一般清理裝置用于生產氰氟草酯不具備反應能力,也實現不了加熱和保溫等功能的問題。
技術領域
本實用新型涉及化學化工技術領域,具體為一種用于生產氰氟草酯的加熱及清理裝置。
背景技術
此前,公開號為CN206229797U的中國實用新型專利公開了一種清理裝置,它包括U形支架、第二齒輪、第一軸承座、第一電機、第一轉軸、第一齒輪、移動裝置、擺動裝置、電動推桿、第二轉軸等;第二軸承座位于第三軸承座上方,第二軸承座上安裝有第二轉軸,第二轉軸上設有第一皮帶輪,第二轉軸右端設有電動推桿,電動推桿右端連接有擺動裝置,擺動裝置包括有第一固定板、支桿、氣缸、電動吸盤和擺動座。本實用新型達到了快速清理化工桶的目的,同時通過本裝置對化工桶進行清理,但該裝置功能單一,使用不便,因此需設計一種用于生產氰氟草酯的加熱及清理裝置,其自帶清理功能的加熱裝置,以使得其可以在氰氟草酯的生產中使用更加便捷。
發明內容
針對現有技術的不足,本實用新型提供了一種用于生產氰氟草酯的加熱及清理裝置,解決了一般清理裝置用于生產氰氟草酯不具備反應能力,也實現不了加熱和保溫等功能的問題。
為實現以上目的,本實用新型通過以下技術方案予以實現:一種用于生產氰氟草酯的加熱及清理裝置,包括底板、反應箱體、清理架和攪拌機構,所述反應箱體設置于所述底板上端,且所述反應箱體和所述底板之間設有支撐桿,所述清理架與所述反應箱體活動連接,所述攪拌機構設置于所述反應箱體內,所述反應箱體內設有反應腔,所述反應箱體周壁內設有保溫層,所述反應箱體底部設有加熱塊,所述加熱塊固定連接有溫控儀表,所述反應箱體底部設有位于所述加熱塊右側的錐形出料口,所述錐形出料口上設有控制閥門,所述反應箱體上部設有進料口,所述反應箱體上端滑動配合連接有清理桿, 所述清理桿下端固定連接有與所述反應腔內壁相抵接接觸的清理刷,所述清理桿上端固定連接有位于所述反應箱體上方的活動板,所述活動板與所述反應箱體之間抵接有纏繞于所述清理桿上的彈簧,所述清理架固定連接于所述反應箱體上端且與所述活動板邊緣位置滑動配合連接,所述清理架上端固定連接有橫桿,所述橫桿中心位置固定連接有第一固定塊,所述第一固定塊兩側固定連接有關于其對稱且位于所述橫桿上的第二固定塊,所述第一固定塊上設有第一電機,所述第一電機輸出端連接有主動帶輪,所述第二固定塊轉動配合連接有轉動軸,所述轉動軸一端固定連接有從動帶輪,所述從動帶輪分別與所述主動帶輪之間動力連接有皮帶,所述轉動軸另一端固定連接有與所述活動板相抵接接觸的偏心輪。
優選的,所述攪拌機構包括第二電機、轉動桿和攪拌葉片,所述第二電機固定連接于所述反應箱體上端,所述轉動桿與所述第二電機輸出端連接,所述攪拌葉片固定連接于所述轉動桿上且位于所述反應腔內。
優選的,所述底板下端四角固定連接有夾板,所述夾板內分別轉動配合鏈接于滾輪。
優選的,所述反應箱體為圓柱形,所述清理桿的數量為4根,所述清理刷為半圓形,所述底板為圓形,所述支撐桿的數量為4根,所述攪拌葉片的數量為3組。
優選的,所述保溫層為任意的保溫填充物,所述加熱塊與電相連,且受溫控儀表的控制。
優選的,所述活動板為圓形,所述清理架滑動配合連接于所述活動板中心兩側位置,所述清理架的長度大于所述清理桿的長度,所述偏心輪大徑端與所述活動板接觸時,所述清理刷剛好位于所述反應腔最下端,所述偏心輪小徑端與所述活動板接觸時,所述清理刷剛好位于所述反應腔最上端。
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