[實用新型]薄型化光學指紋識別裝置

有效

• 申請號: 202020274906.3
• 申請日: 2020-03-09
• 公開（公告）號: CN211480030U
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發明（設計）人: 郝志;張宜;楊振國;劉文濤;焉逢運;程泰毅
• 申請（專利權）人: 上海思立微電子科技有限公司
• 主分類號: H01L27/146
• 分類號: H01L27/146;G06K9/00
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 徐穎聰

1.一種薄型化光學指紋識別裝置，設置于檢測區域下方，其特征在于，包括：

微透鏡陣列，設有若干微透鏡，聚集從所述檢測區域朝向所述微透鏡陣列反射回來攜帶指紋信息的光信號；

吸光層，設置有起光闌和吸光作用的第二開孔，設置于所述微透鏡陣列下方；

光檢測陣列，設置于所述吸光層下方，所述光檢測陣列設有感光區域、第一開孔層和若干層金屬層；所述感光區域包含若干個光電轉換器件，所述第一開孔層設置有若干第一開孔，且和所述若干層金屬層中一層金屬位于同一層，所述第一開孔與所述微透鏡一一對應；所述微透鏡的焦點落在所述第一開孔或靠近所述第一開孔；所述第一開孔層在所述感光區域的投影覆蓋所述光電轉換器件的感光部分；其中，

所述攜帶指紋信號的光信號至少經過所述微透鏡陣列中微透鏡聚集后，經過所述第二開孔后進入所述光檢測陣列，聚焦于與所述微透鏡對應的所述第一開孔內或附近，透過所述第一開孔后到達所述光電轉換器件的感光部分接收。

2.如權利要求1所述光學指紋識別裝置，其特征在于，還包括：

濾光層，所述濾光層設置于所述光檢測陣列表面，濾除非目標波段的光信號。

3.如權利要求2所述光學指紋識別裝置，其特征在于，所述濾光層蒸鍍于所述光檢測陣列表面。

4.如權利要求1所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述吸光層中第二開孔與所述微透鏡陣列中微透鏡一一對應。

5.如權利要求1所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述吸光層中第二開孔與所述感光區域中光電轉換器件一一對應。

6.如權利要求1所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述第一開孔層為金屬材料制作，所述光檢測陣列中頂層金屬覆蓋有鈍化層。

7.如權利要求6所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述第一開孔層位于所述光檢測陣列的頂層金屬層中。

8.如權利要求7所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述微透鏡與所述吸光層之間設置有第一預設厚度的第一介質層。

9.如權利要求7所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述鈍化層至所述吸光層之間設置第二預設厚度的第二介質層。

10.如權利要求6所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述第一開孔層位于所述光檢測陣列的底層金屬層中。

11.如權利要求10所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述吸光層緊貼所述微透鏡陣列設置。

12.如權利要求11所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，還包括濾光層，所述濾光層位于所述鈍化層表面，所述吸光層設置于所述濾光層表面。

13.如權利要求1至11任一所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述吸光層的材質為黑膠、第一濾光層中的至少一種。

14.如權利要求13所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述第一濾光層包括第一子濾光層和第二子濾光層；所述第一子濾光層和第二子濾光層堆疊設置。

15.如權利要求1所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述光檢測陣列中若干金屬層之間設置介質層，所述介質層開有通孔，所述通孔中填充導電材料連接介質層上下的兩層金屬。

16.如權利要求1所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述第二開孔的開孔面積大于所述第一開孔的面積。

17.如權利要求16所述的光學指紋識別裝置，其特征在于，所述第一開孔的為圓形。