[實用新型]一種淋釉裝置

有效

• 申請號: 202020246951.8
• 申請日: 2020-03-03
• 公開（公告）號: CN211729642U
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 顏建煌
• 申請（專利權）人: 福建省德化縣昱晟工藝品有限責任公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04;B28B17/00
• 代理公司: 泉州君典專利代理事務所(普通合伙) 35239
• 代理人: 趙路路

本實用新型涉及施釉設備領域，特別是一種淋釉裝置。該種淋釉裝置，包括從上到下依次設置的淋釉鐘罩、皮帶、接釉槽，淋釉鐘罩用以使釉漿形成釉幕，皮帶設有兩條，且平行設置，皮帶上架放有放置坯體的坯托，坯托包括依次設置的放置座、支撐桿、底座，坯托的底座置于皮帶上，通過皮帶帶動坯托通過釉幕進行淋釉工序，各皮帶上方分別設有一擋釉板，擋釉板間具有可容納坯托的支撐桿通過的間隙，擋釉板阻擋釉幕落于皮帶上，且擋釉板引導釉幕流至接釉槽內。本實用新型生產效率高，減輕工人強度，降低對輸送帶的損壞。

技術領域

本實用新型涉及施釉設備領域，特別是一種淋釉裝置。

背景技術

現有傳統日用陶瓷湯槽、平槽坯體、瓷磚施釉工藝中，普遍采用的是機輪澆釉，方法是將坯體置于旋轉的屯頭上，用排筆拉水后，將釉漿傾入坯體中心，在離心作用下，使釉漿從坯體中心向周圍散開而均布于坯體表面。此施釉方法是工人一件一件地操作，工人勞動強度大，生產效率低，而且不可避免地形成釉珠、釉縷、薄釉等成型缺陷。

為解決上述問題，授權公告號為CN 206748704 U的中國專利公開了一種整體淋釉系統，包括吹灰加濕機構、淋釉機構和遮擋機構，吹灰加濕機構包括吹灰機、噴霧加濕器，輸送帶上的瓷磚磚坯依次經過吹灰風機除塵和噴霧加濕器的淋霧濕潤，淋釉機構包括釉料斗、球面淋釉槽、接料槽和接料斗，釉料斗上安裝有進料管和溢料管，進料管與接料槽連接，接料槽安裝在球面淋釉槽淋釉點的正下方并具有傾斜角度，接料斗通過泵將釉料輸送進釉料斗，溢料管與料筒相連，釉料斗的釉料出口上方安裝有過濾網，釉料斗的出口段安裝有截止閥?，F有的整體淋釉系統，通過釉料斗內的過濾網和球面淋釉槽表面的不粘涂層，保證了不會出現塊狀顆粒粘結在球面淋釉槽上造成淋釉裂縫的出現，釉料快速回收并直接返送進釉料斗內循環使用，降低生產成本的同時提高了效率，使坯體由輸送帶經過釉幕淋灑，表面留下均勻釉層，克服傳統上釉工藝中釉珠、釉縷、薄釉等缺陷，使坯體釉面光滑，釉層均勻；但根據上述公開的一種整體淋釉系統的附圖2可知，釉幕淋灑坯體時，釉幕也對輸送帶進行淋灑，造成對輸送帶的損壞，長期如此，降低了輸送帶的使用壽命。

實用新型內容

本實用新型的主要目的是克服現有技術的缺點，提供一種生產效率高，減輕工人強度，降低對輸送帶的損壞的淋釉系統。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：

一種淋釉裝置，包括從上到下依次設置的淋釉鐘罩、皮帶、接釉槽，所述淋釉鐘罩用以使釉漿形成釉幕，所述皮帶設有兩條，且平行設置，皮帶上架放有放置坯體的坯托，所述坯托包括依次設置的放置座、支撐桿、底座，所述坯托的底座置于皮帶上，通過皮帶帶動坯托通過釉幕進行淋釉工序，所述各皮帶上方分別設有一擋釉板，擋釉板間具有可容納坯托的支撐桿通過的間隙，所述擋釉板阻擋釉幕落于皮帶上，且擋釉板引導釉幕流至接釉槽內。

進一步的，所述擋釉板朝向外側向下傾斜設置。

進一步的，所述擋釉板的兩邊設有側板，側板間連接有一緩流板，所述緩流板設于擋釉板的低位端，且緩流板與擋釉板間形成有可使釉漿通過的流通口。

進一步的，所述緩流板朝向內側向下傾斜設置，且緩流板的長度延伸至流通口的下方，以引導釉漿緩流至接釉槽內。

進一步的，還包括設于淋釉鐘罩表面的兩條擋釉條，所述擋釉條采用柔性材料制成，擋釉條底面與淋釉鐘罩表面密封貼合設置，使釉漿于所述擋釉條間沿著淋釉鐘罩表面向下流動，以形成垂直下落的弧形釉幕。

進一步的，所述擋釉條延伸出淋釉鐘罩的底邊，且擋釉條位于擋釉板的緩流板的內側，使釉幕落至擋釉板的緩流板之間。

進一步的，所述擋釉條呈長條形，擋釉條的橫截面由寛到窄，所述設于淋釉鐘罩表面的兩條擋釉條相對的一面為窄面，且寬面到窄面之間形成凹陷的弧形面。

進一步的，所述擋釉條的底面設有粘性層，擋釉條通過粘性層與淋釉鐘罩的表面密封貼合。