[實用新型]一種原位黑臭水體凈化裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020246700.X | 申請日: | 2020-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN212425774U | 公開(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 軒昂;汪承偉;王喆婷 | 申請(專利權(quán))人: | 上海偉轅環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/14 | 分類號: | C02F9/14 |
| 代理公司: | 合肥市長遠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 段曉微 |
| 地址: | 200000 上海市崇明區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 原位 水體 凈化 裝置 | ||
1.一種原位黑臭水體凈化裝置,其特征在于,包括:箱體(1),箱體(1)內(nèi)部設(shè)有凈化空間,所述凈化空間頂部設(shè)有出水口(6)且底部設(shè)有就進水口(3),所述凈化空間內(nèi)部自上而下依次設(shè)有吸附層(11)、臭氧反應(yīng)層(8)、填料層(9)、沉淀層(10);
吸附層(11)與臭氧反應(yīng)層(8)之間設(shè)有超濾膜(7),臭氧反應(yīng)層(8)側(cè)壁設(shè)有臭氧入口(5);填料層(9)內(nèi)填充有降解反應(yīng)填料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原位黑臭水體凈化裝置,其特征在于,沉淀層(10)側(cè)壁設(shè)有排泥口(12),排泥口(12)位于進水口(3)下方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原位黑臭水體凈化裝置,其特征在于,沉淀層(10)側(cè)壁還設(shè)有曝氣口(4),曝氣口(4)位于進水口(3)上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原位黑臭水體凈化裝置,其特征在于,沉淀層(10)內(nèi)設(shè)有傾斜設(shè)置的沉淀板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原位黑臭水體凈化裝置,其特征在于,吸附層(11)采用活性炭材料填充而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原位黑臭水體凈化裝置,其特征在于,箱體(1)底部設(shè)有底座(2)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海偉轅環(huán)保科技有限公司,未經(jīng)上海偉轅環(huán)保科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020246700.X/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





