[實用新型]一種組合式PVD鍍膜靶材及PVD鍍膜機

有效

• 申請號: 202020238511.8
• 申請日: 2020-03-02
• 公開（公告）號: CN212025441U
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: 張鳳戈;岳萬祥;魏鐵峰;繆磊;高眾;姚偉
• 申請（專利權）人: 北京安泰六九新材料科技有限公司;涿州安泰六九新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22
• 代理公司: 北京五洲洋和知識產權代理事務所(普通合伙) 11387
• 代理人: 榮紅穎;馮娟

本實用新型提供一種組合式PVD鍍膜靶材及PVD鍍膜機，所述組合式PVD鍍膜靶材包括材質不同的靶材本體和底座，所述靶材本體與所述底座分體設置，所述底座的第一端與所述靶材本體的一端連接，將所述底座與所述靶材本體組合為一體。本實用新型的組合式PVD鍍膜靶材可以解決現有技術的脆性靶材與鍍膜機安裝配合時存在容易斷裂的問題，有助于改善成膜質量，提高生產效率并降低成本。

技術領域

本實用新型涉及一種組合式PVD鍍膜靶材及PVD鍍膜機。

背景技術

物理氣相沉積(PVD)技術，即在真空條件下，采用物理方法，將材料源—固體或液體表面氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜，還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。

物理氣相沉積技術工藝具有過程簡單、對環境無污染、耗材少、成膜均勻致密，與基體的結合力強等優點，被廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。

PVD技術可以制造多種膜層，而在制備不同膜層時，需要不同材質的靶材，因此，需要經常更換靶材，對于脆性材質的靶材，例如，純金屬圓形鉻靶，在裝配和使用的過程中，與鍍膜機安裝配合的部位存在容易斷裂的問題，會影響成膜質量、生產效率和成本。

有鑒于此，特提出本申請。

實用新型內容

本實用新型的首要目的在于提供一種組合式PVD鍍膜靶材。所述組合式 PVD鍍膜靶材至少可以解決現有技術的脆性靶材與鍍膜機安裝配合時存在容易斷裂的問題，有助于改善成膜質量，提高生產效率并降低成本。

為了實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

一種組合式PVD鍍膜靶材，組合式PVD鍍膜靶材包括材質不同的靶材本體和底座，所述靶材本體與所述底座分體設置，所述底座的第一端與所述靶材本體的一端連接，將所述底座與所述靶材本體組合為一體。

作為一種實施方式，所述底座的第一端與所述靶材本體的一端螺紋連接、套合連接或卡合連接。

作為一種實施方式，所述底座包括底座本體和第二裝配臺階，所述第二裝配臺階自所述底座本體沿其軸向延伸；

所述第二裝配臺階的中央部位設有凹槽，所述靶材本體的一端設于所述凹槽的內部。

作為另一種實施方式，進一步地，所述底座還包括第一裝配臺階，所述第一裝配臺階自所述底座本體沿其徑向延伸，所述第二裝配臺階設于所述第一裝配臺階的內周。

作為一種實施方式，沿所述底座本體的軸向，所述第一裝配臺階的高度與所述底座本體的高度相同，并低于所述第二裝配臺階的高度；所述凹槽的內部和所述靶材本體的一端的外周設置匹配的螺紋結構。

作為一種實施方式，所述組合式PVD鍍膜靶材可用作PVD鍍膜機的靶材，所述組合式PVD鍍膜靶材中，所述第一裝配臺階和所述第二裝配臺階的尺寸和所述底座與鍍膜機的連接部位的尺寸相匹配。

作為一種實施方式，所述第一裝配臺階為均勻分布于所述底座本體外周的若干個弧面結構，所述第二裝配臺階為圓筒狀結構，所述靶材本體為圓柱狀結構。

作為一種實施方式，所述弧面結構沿所述底座本體的徑向的外徑為 160mm，所述圓筒狀結構的外徑為154mm，所述圓柱狀結構的外徑為150mm。

作為一種實施方式，所述底座采用304不銹鋼、316不銹鋼、銅合金或鋁合金。

作為一種實施方式，所述靶材本體為純Cr靶或含Cr合金靶材。