[實用新型]一種離子源氣體純化裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020234312.X | 申請日: | 2020-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN211837084U | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙良超;何小中;馬超凡;龍全紅;楊興林;李洪 | 申請(專利權(quán))人: | 中國工程物理研究院流體物理研究所 |
| 主分類號: | B01D53/00 | 分類號: | B01D53/00 |
| 代理公司: | 成都四合天行知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51274 | 代理人: | 馮龍;王記明 |
| 地址: | 621000*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 離子源 氣體 純化 裝置 | ||
1.一種離子源氣體純化裝置,包括離子源(1)、導(dǎo)管(2),所述導(dǎo)管(2)的一端與離子源(1)連通,導(dǎo)管(2)的另一端用于連接供氣裝置,其特征在于,還包括降溫裝置,所述導(dǎo)管(2)穿過降溫裝置,所述降溫裝置能夠?qū)?dǎo)管(2)進(jìn)行減溫,并且能夠?qū)?dǎo)管(2)內(nèi)氣體的雜質(zhì)分離純化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述降溫裝置包括低溫容器(7),所述導(dǎo)管(2)穿過低溫容器(7),所述低溫容器(7)內(nèi)設(shè)置有低溫工質(zhì),所述低溫工質(zhì)能夠?qū)?dǎo)管(2)內(nèi)氣體進(jìn)行減溫,并且能夠?qū)?dǎo)管(2)內(nèi)氣體的雜質(zhì)分離純化。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述低溫工質(zhì)為液氮。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述低溫工質(zhì)為液氦。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述導(dǎo)管(2)為蛇形導(dǎo)管。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述導(dǎo)管(2)上設(shè)置有若干管道(5),所述若干管道(5)穿過導(dǎo)管(2),并且與導(dǎo)管(2)的軸線垂直,所述管道(5)內(nèi)腔形成通道。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述若干管道(5)相互錯位排布在導(dǎo)管(2)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述低溫容器(7)兩側(cè)均設(shè)置有導(dǎo)管支架(8),所述導(dǎo)管(2)放置于導(dǎo)管支架上,所述導(dǎo)管支架(8)能夠調(diào)節(jié)導(dǎo)管(2)的高度。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,所述導(dǎo)管支架包括第一支架(9)、第二支架(10)、扭簧(11)、鎖止塊(12),所述第一支架(9)、第二支架(10)為圓筒狀,所述第二支架(10)一端插接在第一支架(9)中,另一端設(shè)置有弧形的導(dǎo)管夾持片(13),第二支架(10)能夠沿第一支架(9)的軸線移動,所述第二支架(10)管壁沿第二支架(10)的軸線方向設(shè)置有一排通孔一(14),所述第一支架(9)管壁設(shè)置有通孔二(15),所述第二支架(10)管壁位于通孔二(15)的下方兩側(cè)均設(shè)置有耳片(16),所述鎖止塊(12)呈“7”字形,所述鎖止塊(12)的一端通過轉(zhuǎn)軸(17)安裝于兩耳片(16)之間,并且所述鎖止塊(12)能夠繞轉(zhuǎn)軸(17)的軸線轉(zhuǎn)動,另一端插入通孔一(14),所述扭簧(11)套設(shè)于轉(zhuǎn)軸(17)上,并且一端扣掛在耳片(16)上,另一端扣掛在鎖止塊(12)上,所述鎖止塊(12)的水平段在扭簧(11)的作用下能夠伸入通孔一(14)和通孔二(15),并且對第一支架(9)和第二支架(10)進(jìn)行固定。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種離子源氣體純化裝置,其特征在于,還包括有按壓塊(18),所述按壓塊(18)設(shè)置于鎖止塊(12)的底部,并且向著遠(yuǎn)離鎖止塊(12)水平段端部的方向彎曲。
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