[實用新型]鍍膜設備

有效

• 申請號: 202020231862.6
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN212175029U
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發明（設計）人: 易偉華;張迅;鄭芳平;徐彬彬;洪華俊
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 朱志達

本實用新型涉及一種鍍膜設備。上述鍍膜設備用于給基板鍍膜，鍍膜設備包括第一中頻鍍膜室和伸縮件，第一中頻鍍膜室包括第一中頻靶底板和第一靶材，第一中頻靶底板設有兩個，兩個第一中頻靶底板錯開設置且存在間隔，每一第一中頻靶底板設有第一靶材，基板能夠從間隔穿過，伸縮件連接于第一中頻靶底板，且能夠帶動第一靶材靠近或者遠離基板，進而給基板鍍膜。上述鍍膜設備，錯開的兩個第一靶材可以同時對基板進行鍍膜，有效的提高了鍍膜的鍍膜效率，同時第一中頻靶底板上的伸縮件可以帶動第一靶材靠近或者遠離基板，使基板的鍍膜操作過程更加靈活。

技術領域

本實用新型涉及一種玻璃鍍膜結構的技術領域，特別是涉及一種鍍膜設備。

背景技術

目前的鍍膜機大多以單面鍍膜為主，但單面鍍膜的效率低，且操作過程較為單一，不靈活。

實用新型內容

基于此，有必要針對目前的鍍膜機單面鍍膜效率低下，且操作過程不靈活的問題，提供一種鍍膜設備。

一種鍍膜設備，用于給基板鍍膜，所述鍍膜設備包括：

第一中頻鍍膜室，包括第一中頻靶底板和第一靶材，所述第一中頻靶底板設有兩個，兩個所述第一中頻靶底板錯開設置且存在第一間隔，每一所述第一中頻靶底板設有第一靶材，基板能夠從所述第一間隔穿過；及

伸縮件，連接于所述第一中頻靶底板，且能夠帶動所述第一靶材靠近或者遠離基板，以使所述第一靶材給基板鍍膜。

上述鍍膜設備，每一第一中頻靶底板設有一個第一靶材，兩個第一中頻靶底板錯開設置，因此兩個第一靶材也錯開設置且存在第一間隔，基板從第一間隔穿過，第一靶材可以對基板的兩側進行鍍膜，有效的提高了鍍膜的鍍膜效率，同時第一中頻靶底板上的伸縮件可以帶動第一靶材靠近或者遠離基板，使基板的鍍膜操作過程更加靈活。

在其中一個實施例中，所述伸縮件被液壓缸驅動，或者被凸輪機構驅動，或者被滾珠絲杠機構驅動，或者被螺紋傳動機構驅動。

在其中一個實施例中，所述鍍膜設備還包括第二中頻鍍膜室，第二中頻鍍膜室連接于所述第一中頻鍍膜室，所述第二中頻鍍膜室設有兩個第二中頻靶底板，兩個所述第二中頻靶底板錯開設置且存在第二間隔，每一所述第二中頻靶底板設有第二靶材；基板能夠從所述第一間隔進入所述第二間隔，以使所述第二靶材能夠對基板鍍膜。

在其中一個實施例中，所述鍍膜設備還包括第一直流鍍膜室和連接于所述第一直流鍍膜室的第二直流鍍膜室，所述第一直流鍍膜室和所述第二直流鍍膜室用于給基板鍍膜，所述第一直流鍍膜室與所述第二中頻鍍膜室連接；基板能夠從所述第二中頻鍍膜室依次進入所述第一直流鍍膜室和所述第二直流鍍膜室。

在其中一個實施例中，所述鍍膜設備還包括隔離室，所述隔離室位于所述第二中頻鍍膜室和所述第一直流鍍膜室之間，基板能夠從所述第二中頻鍍膜室經所述隔離室且進入所述第一直流鍍膜室。

在其中一個實施例中，所述鍍膜設備還包括第一緩沖室和連接于所述第一緩沖室的第一過渡室，所述第一緩沖室和所述第一過渡室用于預熱基板，所述第一過渡室連接于所述第一中頻鍍膜室；基板能夠從所述第一緩沖室經所述第一過渡室且進入所述第一中頻鍍膜室，以對預熱的基板鍍膜。

在其中一個實施例中，所述鍍膜設備還包括第二緩沖室和連接于所述第二緩沖室的第二過渡室，所述第二緩沖室和所述第二過渡室用于冷卻基板，所述第二過渡室連接所述第二直流鍍膜室；基板能夠從所述第二直流鍍膜室經過所述第二過渡室進入所述第二緩沖室，以冷卻已鍍膜的基板。

在其中一個實施例中，所述鍍膜設備還包括真空泵和連接于所述真空泵管的抽氣管道，所述抽氣管道連接于所述第一中頻鍍膜室，所述真空泵能夠通過抽氣管道抽出所述第一中頻鍍膜室內的空氣。

在其中一個實施例中，所述抽氣管道的材質為不銹鋼。