[實用新型]一種納米真空鍍膜儀

有效

• 申請號: 202020226528.1
• 申請日: 2020-02-28
• 公開（公告）號: CN211689209U
• 公開（公告）日: 2020-10-16
• 發明（設計）人: 王寧
• 申請（專利權）人: 蘇州泓沵達儀器科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 許云峰

本實用新型公開了一種納米真空鍍膜儀，包括機架，機架上固設有真空室，真空室內頂部設有基片臺、內底部對應于基片臺的下方位置設有蒸發源；真空室上端開口，并在該開口處設有啟閉的上蓋，上蓋上設有旋轉電機，旋轉電機與基片臺連接，且旋轉電機的中心線與基片臺的中心線重合；真空室外部兩側設有自動伸縮桿，自動伸縮桿的上端與上蓋鉸接、下端與機架鉸接；上蓋在蓋合時，自動伸縮桿處于收縮狀態；真空室與抽真空機組相連。通過旋轉電機可帶動基片臺轉動，使基片臺上的待鍍工件鍍膜更均衡；自動伸縮桿的使用，手工打開鎖扣后，自動將上蓋上翻，極大的方便了設備的清洗保養工作，節省了人力，提高了工作效率。

技術領域

本實用新型涉及鍍膜儀器技術領域，尤其涉及一種納米真空鍍膜儀。

背景技術

真空熱蒸發鍍膜技術被廣泛應用于有機EL(Electro Luminescence)顯示器等平板顯示器的制造領域，該技術在相應薄膜器件產業化中的應用也十分廣泛。其基本原理是利用加熱的手段使待形成薄膜的原材料受熱蒸發，由凝聚相變成氣相，原材料的分子或原子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到基板(襯底)表面，最終蒸發的分子或原子在基板(襯底)上沉積，凝結形成固態薄膜。

目前的納米真空鍍膜儀上蓋的打開比較繁瑣，需要幾個人合作一起抬著搬下來，需要耗費很大的力氣，不利于對真空室的維護保養。同時存在著整體鍍膜品質不高的問題。

實用新型內容

為克服上述缺點，本實用新型的目的在于提供一種納米真空鍍膜儀，通過對其結構的改善，提高提高整體的鍍膜品質，降低勞動強度。

為了達到以上目的，本實用新型采用的技術方案是：一種納米真空鍍膜儀，包括機架，所述機架上固定設置有真空室，所述真空室內頂部設置有基片臺、內底部對應于基片臺的下方位置設置有蒸發源；所述真空室上端開口，并在該開口處設置有啟閉的上蓋，所述上蓋上設置有旋轉電機，所述旋轉電機與基片臺連接，且旋轉電機的中心線與基片臺的中心線重合；所述真空室外部兩側設置有自動伸縮桿，所述自動伸縮桿的上端與上蓋鉸接、下端與機架鉸接；上蓋在蓋合時，所述自動伸縮桿處于收縮狀態；所述真空室與抽真空機組相連。

進一步來說，所述蒸發源包括用于放置蒸發鍍膜材料的蒸發坩堝、用于給蒸發坩堝加熱的鎢絲，所述機架上設置有通過電路控制鎢絲加熱的控溫儀表。

進一步來說，所述抽真空機組包括與真空室導通相連的真空管路，所述真空管路的末端設置有機械泵，所述真空管路上設置有閘板閥。

進一步來說，所述抽真空機組還包括預抽管路，所述預抽管路的一端與真空室導通、另一端與機械泵的進氣口導通，所述預抽管路上設置有預抽閥，所述真空管路上設置有分子泵，所述分子泵位于閘板閥與機械泵之間。

采用兩級抽真空，打開預抽閥、關閉閘板閥、啟動機械泵，對真空室進行第一次抽真空，抽真空一段時間后，打開閘板閥、關閉預抽閥，啟動分子泵，對真空室進行二次抽真空，采用上述抽真空方式其抽真空效果更佳。

進一步來說，所述真空室設置有觀察窗，方便觀察真空室內情況。

進一步來說，所述上蓋一端鉸接在真空室的開口處、另一端通過鎖扣與真空室相連。上蓋采用翻轉的形式蓋合在真空室的開口處。

本實用新型通過旋轉電機可帶動基片臺轉動，使基片臺上的待鍍工件鍍膜更均衡；采用兩級抽真空，提高了對真空室的抽真空效果，提高鍍膜品質；自動伸縮桿的使用，手工打開鎖扣后，自動將上蓋上翻，極大的方便了設備的清洗保養工作，節省了人力，提高了工作效率。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的結構示意圖(缺少抽真空機組)。

圖2為本實用新型實施例中真空室、抽真空機組配合結構示意圖。

圖中：