[實用新型]一種服裝面料的等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 202020190787.3
• 申請日: 2020-02-21
• 公開（公告）號: CN211772353U
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 張小龍;鄒桂根
• 申請（專利權）人: 云南喬治白服飾科技有限公司
• 主分類號: D06M10/02
• 分類號: D06M10/02;H01J37/32
• 代理公司: 曲靖科嵐專利代理事務所(特殊普通合伙) 53202
• 代理人: 戎加富

1.一種服裝面料的等離子體處理裝置，其特征在于：包括放卷工作室（17）、等離子處理室（10）和收卷工作室（2），所述放卷工作室（17）與等離子處理室（10）之間以及等離子處理室（10）與收卷工作室（2）之間均設置有供布料穿過的布料通道，所述放卷工作室（17）內安裝有放卷輥（14），所述收卷工作室（2）內安裝有收卷輥（1），所述等離子處理室（10）內間隔安裝有至少兩組等離子處理器，每組等離子處理器包括兩個對稱布置的下過料輥（20）、兩個對稱布置的上過料輥（5）、兩個對稱布置的上導向輥（6）和兩塊間隔對稱布置的電極板（4），所述電極板（4）活動安裝在等離子處理室（10）內，所述電極板（4）的一側設置有冷卻管（22），所述冷卻管（22）在電極板（4）上呈蛇形布置，所述電極板（4）的另一側安裝有磁力組件，兩塊電極板（4）上的磁力組件相對設置，兩個下過料輥（20）安裝在兩塊電極板（4）之間的下側，兩個上過料輥（5）安裝在兩塊電極板（4）之間的上側，兩個上過料輥（5）與兩個下過料輥（20）之間上下相互對稱，兩個上導向輥（6）安裝在兩個上過料輥（5）的上側，兩個上導向輥（6）之間的間距大于兩個上過料輥（5）之間的間距,在上導向輥（6）和上過料輥（5）之間的等離子處理室（10）內安裝有氣體分布盤（7）,氣體分布盤（7）的底部加工有多個透氣孔,所述等離子處理室（10）外設置有氣體供給罐（9）,所述氣體供給罐（9）通過連通軟管（8）與氣體分布盤（7）連通,所述等離子處理室（10）的底部設置有抽真空管（19）,所述抽真空管（19）上安裝有抽真空泵（18）。

2.根據權利要求1所述的一種服裝面料的等離子體處理裝置，其特征在于：所述磁力組件由三塊磁鐵（11）和一塊磁軛（12）組成，所述磁軛（12）安裝在電極板（4）上，所述磁鐵（11）間隔安裝在磁軛（12）上，三塊磁鐵（11）和一塊磁軛（12）組成為山字型的結構形狀，磁軛（12）上相鄰兩塊磁鐵（11）的極性相反，且相對的兩個磁力組件中的相對兩塊磁鐵（11）的極性相同。

3.根據權利要求1所述的一種服裝面料的等離子體處理裝置，其特征在于：在放卷輥（14）與和放卷輥（14）鄰近的下過料輥（20）之間設置有過料托輥（16），過料托輥（16）安裝在放卷工作室（17）內，在收卷輥（1）和與收卷輥（1）鄰近的下過料輥（20）之間設置有張緊輥（21），張緊輥（21）安裝在等離子處理室（10）內。

4.根據權利要求1所述的一種服裝面料的等離子體處理裝置，其特征在于：在放卷工作室（17）內安裝有氣體分布器（15），所述氣體分布器（15）通過旁通管與氣體供給罐（9）連通，所述旁通管上安裝有電磁閥（13）。

5.根據權利要求1所述的一種服裝面料的等離子體處理裝置，其特征在于：所述等離子處理室（10）內的側壁上對稱安裝有插座（3），兩塊插座（3）上豎向加工有插板槽（23），兩塊插座（3）上的插板槽（23）相對設置，每塊所述電極板（4）的兩端插裝在插板槽（23）內。