[實(shí)用新型]基于漫反射原理的成像光譜拍攝暗箱有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020184917.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN212159521U | 公開(公告)日: | 2020-12-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王海江;李天勝;呂新;李亞莉;崔靜;祝榛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 石河子大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/01 | 分類號(hào): | G01N21/01;G01N21/47 |
| 代理公司: | 烏魯木齊市禾工專利代理事務(wù)所 65108 | 代理人: | 何冰 |
| 地址: | 832000 新疆維*** | 國(guó)省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 漫反射 原理 成像 光譜 拍攝 暗箱 | ||
本實(shí)用新型公開了基于漫反射原理的成像光譜拍攝暗箱,涉及拍攝裝置技術(shù)領(lǐng)域,達(dá)到了使處于暗箱內(nèi)的樣品接受均勻光照,光譜圖片中不存在光斑的目的。本實(shí)用新型的主要技術(shù)方案為:基于漫反射原理的成像光譜拍攝暗箱,包括:殼體,包括上下層,下層內(nèi)壁中噴涂漫反射材料以降低光線損耗;照明設(shè)備,包括散熱器、支架、鹵素?zé)艉吐浒澹鳆u素?zé)舭l(fā)出的光垂直照在漫射板上進(jìn)入在殼體內(nèi)部;儀器托架,包括擋光板、固定柱和墊圈,成像光譜儀固定于所述固定柱上,將鏡頭探入拍攝孔進(jìn)行拍攝。本實(shí)用新型主要用于拍攝時(shí)樣品受光均勻、隔熱、密封。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及拍攝裝置技術(shù)領(lǐng)域,是基于漫反射原理的成像光譜拍攝暗箱。
背景技術(shù)
成像光譜是作物無損監(jiān)測(cè)的手段之一,對(duì)作物精準(zhǔn)快速監(jiān)測(cè)營(yíng)養(yǎng)狀況有重要意義。原始光譜圖像質(zhì)量對(duì)后續(xù)校正和反射率轉(zhuǎn)換有極大的影響,光線不均勻使得校正完的圖像本身接受到的光輻射度就不同,基于此計(jì)算出的反射率就不精確,同時(shí)常用光源鹵素?zé)舻陌l(fā)熱情況使得長(zhǎng)時(shí)間的拍攝中樣品易變性,影響了光譜采集的精確度。因此,能夠均勻光照、隔離熱量的光譜拍攝暗箱對(duì)科研有重要意義。目前,科研中使用的暗箱主要有兩種,一種是實(shí)驗(yàn)者依據(jù)自身需要搭建,使用紙殼、黑布等材料經(jīng)過裁剪制作而成,存在避光條件不夠好,有外界光污染等問題;另一種是市場(chǎng)上銷售的光譜拍攝暗箱類產(chǎn)品,使用光源數(shù)量不等,存在多個(gè)光源可使光照均勻但溫度提升快、樣品易變性,較少光源溫度提升慢但光線不均勻、圖片質(zhì)量差的尷尬局面。
鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述技術(shù)缺陷,迫切需要研制一種密封、隔熱且光照均勻的光譜拍攝暗箱。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型提供了基于漫反射原理的成像光譜拍攝暗箱,其克服了現(xiàn)有技術(shù)之不足,提供一種密封、隔熱且光照均勻的光譜拍攝暗箱。
本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn)的:
基于漫反射原理的成像光譜拍攝暗箱,包括殼體,下層,內(nèi)壁,底板,門,把手,鎖搭扣,圓角,漫反射材料,上層,凹槽,散熱孔隙,卡槽,電源開關(guān),照明設(shè)備,散熱器,支架,鹵素?zé)簦浒澹缐m濾網(wǎng),風(fēng)扇,燈座,拍攝孔,擋板,儀器托架,擋光板,固定柱,墊圈,圓孔,攝影快裝板卡槽,橡膠,光圈,蓋子,合葉,螺絲結(jié)構(gòu);
所述殼體,分為上層和下層,所述下層壁角處存在圓角裝置,所述上層兩側(cè)存在散熱孔隙;
所述照明設(shè)備,包括散熱器、支架、鹵素?zé)艉吐浒澹錾崞鞴潭ㄓ跉んw上層散熱孔隙處,所述支架位于殼體上層上部,用于為鹵素?zé)籼峁┲危行挠信臄z孔,所述漫射板為梯形,四塊漫射板分別與殼體呈一定角度聚攏為棱臺(tái)狀,所述鹵素?zé)艄饩€照在漫射板上,進(jìn)入殼體下層;
所述儀器托架,包括擋光板、固定柱和墊圈,所述擋光板覆蓋于所述支架上,中心有比拍攝孔大的圓孔,固定柱固定于支架上,位于圓孔中拍攝孔旁邊,其上有攝影快裝板卡槽,用于固定成像光譜儀,墊圈位于拍攝孔上,用于為成像光譜儀提供緩沖并遮光。
下面是對(duì)上述實(shí)用新型技術(shù)方案的進(jìn)一步的優(yōu)化和/或改進(jìn):
優(yōu)選的,所述殼體下層門上有把手和鎖扣,使得殼體密封,同時(shí)便于拍攝時(shí)樣品的更換。
優(yōu)選的,所述殼體下層四周存在圓角,以此增強(qiáng)光線的利用率,避免光線在直角處光線不均。
優(yōu)選的,所述殼體上層左右兩側(cè)各有兩個(gè)散熱孔隙,里面有散熱器,以此達(dá)到防塵和散熱目的。
優(yōu)選的,所述散熱器為防塵慮網(wǎng)和風(fēng)扇組合而成,多個(gè)散熱器在上層形成風(fēng)道輔助散熱。
優(yōu)選的,所述漫射板采用漫射率好且耐熱性好的材料制作,同時(shí)在所述殼體下層門打開的時(shí)候拆卸;這里通過材料設(shè)置便于光線散射,快拆設(shè)置便于漫射板清潔除塵。
優(yōu)選的,所述墊圈為黑色,上表層為橡膠材質(zhì),和光譜儀緊密貼合,下方為光圈結(jié)構(gòu);這里設(shè)置墊圈是為了隔絕外來光線干擾。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





