[實用新型]光罩及曝光裝置有效
| 申請號: | 202020174445.2 | 申請日: | 2020-02-14 |
| 公開(公告)號: | CN211627999U | 公開(公告)日: | 2020-10-02 |
| 發明(設計)人: | 李艷強;王震;許建勇 | 申請(專利權)人: | 南昌歐菲顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/40 | 分類號: | G03F1/40 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 陳秀麗 |
| 地址: | 330100 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曝光 裝置 | ||
本實用新型涉及一種光罩及曝光裝置,該光罩包括:基板,可以使光線穿過;光罩圖案,設置在基板上,光罩圖案包括圖案部、邊緣部以及引線;所述圖案部和所述邊緣部均不透光且均可以導電,所述圖案部用于向被曝光物轉印圖案,所述邊緣部與所述圖案部間隔設置,所述邊緣部具有接線端以便與外電路電連接;所述引線用于將所述圖案部和所述邊緣部電性連接在一起,且光線可以從所述引線與所述基板相接的一側傳播至所述引線遠離所述基板的一側。本實用新型提供的光罩中,光罩圖案的圖案部和邊緣部均可以導電,且二者電性連接,使用時將邊緣部的接線端接地,便可以將光罩上產生的電荷便可以從接線端導入大地,從而可以避免光罩上的圖案被靜電擊傷。
技術領域
本實用新型涉及曝光技術領域,特別是涉及一種光罩及曝光裝置。
背景技術
光罩用于對待曝光物體進行曝光作業,以便將光罩上的圖案轉印至待曝光物體上。其中,對待曝光物體進行曝光時,光罩通常需要與待曝光物體接觸,光罩在靠近或遠離待曝光物體時,光罩會與空氣或者待曝光物體產生摩擦,這會使光罩表面產生靜電,這些靜電會擊傷光罩上的圖案,甚至是引發安全事故。
實用新型內容
基于此,有必要針對光罩上產生的靜電會擊傷光罩的圖案的問題,提供一種光罩及曝光裝置。
一種光罩,包括:基板,可以使光線穿過;光罩圖案,設置在所述基板上,所述光罩圖案包括圖案部、邊緣部以及引線;所述圖案部和所述邊緣部均不透光且均可以導電,所述圖案部用于向被曝光物轉印圖案,所述邊緣部與所述圖案部間隔設置,所述邊緣部具有接線端以便與外電路電連接;所述引線用于將所述圖案部和所述邊緣部電性連接在一起,且光線可以從所述引線與所述基板相接的一側傳播至所述引線遠離所述基板的一側。
本實用新型提供的光罩中,光罩圖案的圖案部和邊緣部均可以導電,且二者電性連接,使用時將邊緣部的接線端接地,便可以將光罩上產生的電荷便可以從接線端導入大地,從而可以避免光罩上的圖案被靜電擊傷,同時這樣也可以避免因靜電而引起的其他安全事故。
進一步的,所述光罩圖案一次成型于所述基板,以便使光罩的生產更加簡單。
進一步的,所述光罩圖案由設置在所述基板上的金屬層經蝕刻后形成。
進一步的,所述圖案部包括間隔設置的第一區、第二區,以及連接線;其中,所述連接線將所述第一區和所述第二區電性連接在一起,這樣設置可以使圖案部內部各間隔設置的區域也電性連接起來,這樣更利于防止光罩產生靜電;及/或所述引線的寬度為1um-2um,這樣光線便可以繞過引線,以便從引線與基板相接的一側傳播至引線遠離基板的一側,進而對待曝光物體與引線相對的區域進行照射。
進一步的,所述連接線與所述引線的結構設置相同。
進一步的,所述光罩還包括透光的保護膜,所述保護膜設置在所述光罩圖案遠離所述基板的表面,通過保護膜可以對光罩圖案進行保護,有效避免光罩圖案受到刮碰,進而可以提高光罩的使用壽命。
進一步的,所述保護膜為絕緣膜,所述絕緣膜具有缺口以免遮擋所述接線端。
進一步的,所述圖案部的個數大于等于2,各所述圖案部間隔設置,這樣可以同時向待曝光物體上轉印兩個以上的圖案,從而可以提高生產效率;及/或所述邊緣部為環形區域,所述圖案部位于所述環形區域內,這樣更方便各圖案部與邊緣部電連接。
進一步的,所述光罩用于制備觸控膜,所述觸控膜包括觸控引線、信號引線以及金手指;其中,所觸控引線用于形成觸控電容,所述信號引線用于將所述觸控電容產生的觸控信號傳遞至所述金手指,所述金手指用于與外電路連接,以便將所述觸控信號傳遞至處理器;所述圖案部包括用于形成所述觸控引線的觸控引線圖案、用于形成所述信號引線的信號引線圖案以及用于形成所述金手指的金手指圖案;其中,所述金手指圖案通過所述引線與所述邊緣部電性連接。
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