[實用新型]一種鋁基板真空曝光裝置的結構

有效

• 申請號: 202020173158.X
• 申請日: 2020-02-15
• 公開（公告）號: CN211454232U
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 江東紅;曹克鐸;吳志峰
• 申請（專利權）人: 福建利德寶電子有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H05K1/05;H05K3/06
• 代理公司: 北京云科知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11483
• 代理人: 張飆

1.一種鋁基板真空曝光裝置的結構，所述鋁基板真空曝光裝置設置有紫外光源、透光底板、真空腔、蓋板，所述真空腔的底面為透光底板，所述真空腔內用于堆疊放置菲林片和待曝光鋁基板，菲林片緊貼透光底板放置，待曝光鋁基板放置在菲林片上，其特征在于，所述蓋板設置有外框、底板，所述蓋板的底板可彈性變形，所述真空腔側壁的頂面設置有密封圈，所述密封圈的上表面與所述蓋板外框的下表面緊密接觸實現對真空腔的密封，所述底板的下表面設置有墊塊，所述墊塊的下表面設置有沉槽，所述沉槽的長度與所述墊塊的長度相等，所述沉槽水平貫穿墊塊的前后表面，所述墊塊壓在所述待曝光鋁基板的背面將所述待曝光鋁基板和菲林片壓緊，抽真空時，底板在大氣壓力下彈性變形壓向真空腔內，所述墊塊下壓將所述待曝光鋁基板與菲林片之間的空氣擠出，同時墊塊與所述待曝光鋁基板之間的空氣經由沉槽被有效地抽走。

2.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述真空腔還設置有抽真空口，用于連接真空泵對真空腔進行抽真空，所述抽真空口設置于所述真空腔的側壁上，所述抽真空口設置有若干個。

3.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述蓋板為真空腔的頂部，所述蓋板的側面設置有合頁，沿所述合頁轉動所述蓋板可以打開真空腔，所述透光底板上還設置有定位柱，菲林片和待曝光鋁基板均放置入真空腔時借助該定位柱進行兩者之間的對準。

4.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述紫外光源設置于所述透光底板的下方，所述真空腔設置于所述透光底板的上方。

5.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述密封圈環繞真空腔設置。

6.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，未抽真空時，所述蓋板的底面與所述底板的底面平齊，所述墊塊沉入所述真空腔內。

7.根據權利要求3所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述定位柱設置于所述真空腔的邊緣，所述定位柱的上方沒有墊塊。

8.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述墊塊下表面沉槽的深度小于所述墊塊的厚度，所述沉槽設置有若干個。

9.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述墊塊下表面沉槽的橫截面為方形，沉槽之間的間距相等。

10.根據權利要求1所述的一種鋁基板真空曝光裝置的結構，其特征在于，所述墊塊下表面沉槽的橫截面為錐形，沉槽之間的間距相等。