[實(shí)用新型]蒸鍍掩模、蒸鍍掩模裝置以及中間體

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202020146633.4
• 申請(qǐng)日: 2020-01-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN213232465U
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 池永知加雄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大日本印刷株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 鄧毅;黃綸偉

1.一種蒸鍍掩模，其特征在于，

所述蒸鍍掩模具備：

掩模主體；和

支承體，其接合于所述掩模主體，

所述掩模主體具有第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，所述支承體具有第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，

所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)和所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)被設(shè)置于在俯視時(shí)互相重合的位置，并且所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)和所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)中的任意一方比另一方大。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述掩模主體具有形成有多個(gè)貫通孔的鍍層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述掩模主體具有互相層疊的金屬層和樹(shù)脂掩模。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是形成于所述掩模主體的貫通孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是形成于所述支承體的貫通孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是凹陷至所述支承體的厚度方向中途的非貫通孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模，其特征在于，

所述支承體包含：位于所述掩模主體側(cè)的第1支承基板；和位于所述第1支承基板上的第2支承基板，所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)包含：所述第1支承基板的第1部分；和所述第2支承基板的第2部分，所述第1部分在俯視時(shí)比所述第2部分小。

8.一種蒸鍍掩模裝置，其特征在于，

所述蒸鍍掩模裝置具備：

權(quán)利要求1所述的蒸鍍掩模；和

框架，其接合于所述蒸鍍掩模的支承體。

9.一種中間體，其特征在于，

所述中間體具備：

基材；

掩模主體，其接合于所述基材；以及

支承體，其接合于所述掩模主體，

所述掩模主體具有第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，所述支承體具有第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)，

所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)和所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)被設(shè)置于在俯視時(shí)互相重合的位置，并且所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)和所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)中的任意一方比另一方大。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述掩模主體具有形成有多個(gè)貫通孔的鍍層。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述掩模主體具有互相層疊的金屬層和樹(shù)脂掩模。

12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是形成于所述掩模主體的貫通孔。

13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述第1校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是形成于所述基材上的島狀的突起。

14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是形成于所述支承體的貫通孔。

15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)是凹陷至所述支承體的厚度方向中途的非貫通孔。

16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中間體，其特征在于，

所述支承體包含：位于所述掩模主體側(cè)的第1支承基板；和位于所述第1支承基板上的第2支承基板，所述第2校準(zhǔn)標(biāo)識(shí)包含：所述第1支承基板的第1部分；和所述第2支承基板的第2部分，所述第1部分在俯視時(shí)比所述第2部分小。