[實用新型]預潤濕設備及預潤濕系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020143732.7 | 申請日: | 2020-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN211376599U | 公開(公告)日: | 2020-08-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 史蒂文·賀·汪 | 申請(專利權)人: | 新陽硅密(上海)半導體技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務所 31283 | 代理人: | 薛琦;羅洋 |
| 地址: | 201616 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 潤濕 設備 系統(tǒng) | ||
1.一種預潤濕設備,用于晶圓的預潤濕,包括第一箱體,所述第一箱體的內部具有容置腔,所述容置腔用于通入預潤濕液體,其特征在于,所述預潤濕設備還包括夾持部,所述夾持部設置在所述容置腔的內部,所述夾持部用于卡持所述晶圓的外圓面,以使所述晶圓浸沒于所述預潤濕液體中。
2.如權利要求1所述的預潤濕設備,其特征在于,所述夾持部具有卡槽,所述卡槽用于卡持所述晶圓的外圓面。
3.如權利要求2所述的預潤濕設備,其特征在于,自所述卡槽的入口至所述卡槽的底部,所述卡槽的開口的寬度減小。
4.如權利要求2所述的預潤濕設備,其特征在于,所述卡槽具有相對設置的第一面及第二面,所述第一面及所述第二面中至少一個設有溝槽。
5.如權利要求1中任意一項所述的預潤濕設備,其特征在于,所述預潤濕設備還包括防濺部,所述防濺部設置在所述容置腔的內部,所述防濺部套設于所述晶圓的外部,以使至少部分所述晶圓的側面被所述防濺部遮擋。
6.如權利要求5所述的預潤濕設備,其特征在于,所述防濺部包括兩個相對設置的寬板及兩個相對設置的窄板,兩個所述窄板設置在兩個所述寬板的兩端,所述晶圓插設于兩個所述寬板之間。
7.如權利要求6所述的預潤濕設備,其特征在于,所述寬板設有缺口,沿晶圓進入所述防濺部的方向,所述缺口的寬度減小。
8.如權利要求6所述的預潤濕設備,其特征在于,遠離所述晶圓進入所述防濺部的一端,所述窄板凸出于所述寬板。
9.如權利要求6所述的預潤濕設備,其特征在于,所述潤濕設備還包括卡板組件,所述卡板組件固定設置在所述第一箱體的內側面,所述卡板組件包括兩個相對設置的卡板,兩個所述寬板卡設于兩個所述卡板之間。
10.如權利要求6所述的預潤濕設備,其特征在于,所述寬板設有固定部,所述固定部用于固定所述夾持部。
11.如權利要求10所述的預潤濕設備,其特征在于,所述夾持部包括固定柱,所述固定柱的圓周方向設有卡槽,所述固定柱的兩端插分別設于所述寬板內。
12.如權利要求11所述的預潤濕設備,其特征在于,所述夾持部還包括套管,所述卡槽設置在所述套管上,所述套管套設于所述固定柱的外側面。
13.如權利要求11所述的預潤濕設備,其特征在于,所述固定柱的兩端均設有螺紋,所述固定柱的兩端分別設有螺母,所述螺母自所述寬板的外側面沿所述螺紋旋緊。
14.如權利要求11所述的預潤濕設備,其特征在于,所述固定部為固定槽,所述固定槽設置在所述寬板上,自遠離所述晶圓進入所述防濺部的一端,所述固定槽向所述晶圓進入所述防濺部的一端延伸。
15.如權利要求10所述的預潤濕設備,其特征在于,所述固定部的數量為多個,每個所述固定部內均設有夾持部。
16.如權利要求10所述的預潤濕設備,其特征在于,所述預潤濕設備包括多個所述防濺部,多個所述防濺部并列設置在所述容置腔內。
17.如權利要求5-16中任意一項所述的預潤濕設備,其特征在于,所述防濺部設置在所述第一箱體的底部。
18.如權利要求17所述的預潤濕設備,其特征在于,所述晶圓的側面與水平面的夾角的范圍為≥0度且≤90度。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





