[實用新型]蒸汽發(fā)生裝置和衣物處理器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020143352.3 | 申請日: | 2020-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN212103403U | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳慧民;劉化勇;許智波;姚亮;馮凡彬 | 申請(專利權)人: | 佛山市順德區(qū)美的電熱電器制造有限公司;美的集團股份有限公司 |
| 主分類號: | D06F73/00 | 分類號: | D06F73/00 |
| 代理公司: | 北京友聯(lián)知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;王淑梅 |
| 地址: | 528311 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸汽 發(fā)生 裝置 衣物 處理器 | ||
本實用新型提供了一種蒸汽發(fā)生裝置和衣物處理器,蒸汽發(fā)生裝置包括:蒸汽發(fā)生器;供電裝置,供電裝置與蒸汽發(fā)生器電連接,以通過供電裝置對蒸汽發(fā)生器供電。本實用新型提供的蒸汽發(fā)生裝置,包括蒸汽發(fā)生器和供電裝置,供電裝置可對蒸汽發(fā)生器供電,從而在使用時不需要再連接電源線,便于用戶操作,同時蒸汽發(fā)生裝置不受傳統(tǒng)電源線的約束使得其更加便于攜帶和使用,且本申請?zhí)峁┑恼羝l(fā)生裝置,既不需要連接市電的電源線,也不需要連接市電的充電座,因此蒸汽發(fā)生裝置體積更小。
技術領域
本實用新型涉及家用電器技術領域,具體而言,涉及一種蒸汽發(fā)生裝置和一種衣物處理器。
背景技術
目前,相關技術中,蒸汽掛燙機都需要通過電源線或者充電座來供電,在攜帶和使用上多有不便,特別是在沒有市電而又需要熨燙衣服的場合下,普通手持掛燙機就無法使用。
實用新型內(nèi)容
本實用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術或相關技術中存在的技術問題之一。
為此,本實用新型的第一方面提供了一種蒸汽發(fā)生裝置。
本實用新型的第二方面還提供了一種衣物處理器。
有鑒于此,本實用新型的第一方面提出了一種蒸汽發(fā)生裝置,包括:蒸汽發(fā)生器;供電裝置,供電裝置與蒸汽發(fā)生器電連接,以通過供電裝置對蒸汽發(fā)生器供電。
本實用新型提供的蒸汽發(fā)生裝置,包括蒸汽發(fā)生器和供電裝置,供電裝置可對蒸汽發(fā)生器供電,從而在使用時不需要再連接電源線,便于用戶操作,同時蒸汽發(fā)生裝置不受傳統(tǒng)電源線的約束使得其更加便于攜帶和使用。
進一步地,本申請?zhí)峁┑恼羝l(fā)生裝置,既不需要連接市電的電源線,也不需要連接市電的充電座,因此蒸汽發(fā)生裝置體積更小,更利于攜帶。
根據(jù)本實用新型提供的上述的蒸汽發(fā)生裝置,還可以具有以下附加技術特征:
在上述技術方案中,進一步地,蒸汽發(fā)生器包括:基座組件,基座組件形成有容置空間和加熱區(qū)域;隔離部,隔離部設置在容置空間內(nèi),且隔離部至少將容置空間分隔成第一腔室和第二腔室,第一腔室和第二腔室相連通,其中,加熱區(qū)域適于對第一腔室和/或第二腔室加熱。
在該技術方案中,蒸汽發(fā)生器包括基座組件和隔離部,基座組件上形成有容置空間和加熱區(qū)域,隔離部設置在容置空間內(nèi)以與容置空間限定出第一腔室和第二腔室,加熱區(qū)域對應第一腔室設置和/或對應第二腔室設置,以對其所在腔室加熱。
具體地,加熱區(qū)域可對第一腔室加熱,從而減少需要加熱的介質(zhì)的重量,進而提高第一腔室內(nèi)的介質(zhì)蒸發(fā)的速率。
具體地,加熱區(qū)域也可對第二腔室加熱,從而減少需要加熱的介質(zhì)的重量,進而提高第二腔室內(nèi)的介質(zhì)的蒸發(fā)速率。
具體地,加熱區(qū)域也可同時對第一腔室和第二腔室加熱,從而可將第二腔室作為預加熱腔,用于對液體預加熱,當?shù)诙皇覂?nèi)的液體流進第一腔室時,可縮短加熱區(qū)域對第一腔室內(nèi)液體的加熱時長,也即縮短了介質(zhì)蒸發(fā)的時長,提高了蒸發(fā)速率。
具體地,加熱區(qū)域對第一腔室的加熱功率和對第二腔室的加熱功率可相同也可不同。
在上述任一技術方案中,進一步地,基座組件包括:支撐件,支撐件上形成有容置空間;加熱件,加熱件設于支撐件上,并形成加熱區(qū)域,其中,供電裝置與加熱件電連接。
在該技術方案中,基座組件包括支撐件和加熱件。其中,支撐件上設置有容置空間,隔離部位于容置空間的內(nèi)部,并可將該容置空間分隔為至少第一腔室和第二腔室,以起到局部加熱的作用;加熱件設置于支撐件上,并在支撐件的局部區(qū)域形成加熱區(qū)域,保證為第一腔室或第二腔室供熱。
在上述任一技術方案中,進一步地,基座組件包括:底座,支撐件設置在底座上,其中,供電裝置設置在底座內(nèi),或供電裝置外置于底座。
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