[實用新型]一種平面打磨機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202020133487.1 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN211805211U | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳靜超;吳波;曹健;吳敏峰;靖燕 | 申請(專利權(quán))人: | 杭州怡田工具制造有限公司 |
| 主分類號: | B24B7/18 | 分類號: | B24B7/18;B24B55/04;B24B41/02;B24B41/00 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 郭彩紅 |
| 地址: | 311400 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平面 打磨 | ||
本實用新型涉及一種平面打磨機,涉及平面打磨工具技術(shù)領域,現(xiàn)有技術(shù)存在難以控制打磨盤相對參考平面進給量的問題。本方案包括保護罩、安裝于保護罩內(nèi)的打磨盤,保護罩包括固定部和拆卸部,打磨盤部分位于固定部內(nèi)且另一部分位于拆卸部內(nèi);還包括連接于保護罩的輔助架,輔助架上安裝有至少一個導向滾動件,且所有導向滾動件的外周壁與打磨盤伸出固定部部分的外周壁均相切于同一平面,該平面為參考平面。本方案可方便操作者控制打磨盤相對于參考面的進給量。
技術(shù)領域
本實用新型涉及平面打磨工具技術(shù)領域,尤其是涉及一種平面打磨機。
背景技術(shù)
在建筑裝修領域中,由于墻面的不平整或者地面的粗糙度過高,都需要用平面打磨機對其進行打磨,以獲得平整度更高的地面或墻面。
如申請公布號為CN 104802049 A的中國發(fā)明專利——一種新型無塵地面打磨機,該方案包括:打磨砂盤、用于驅(qū)動打磨砂盤轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機和推拉手桿,在驅(qū)動電機的帶動下,打磨砂盤可對地面進行打磨,而操作者可通過控制推拉手桿以實現(xiàn)打磨砂盤的橫向或縱向移動,從而可實現(xiàn)大范圍打磨操作。但是這類打磨機存在一個弊端:由于打磨盤呈圓盤狀,且打磨盤外周保護有同樣呈圓盤狀的保護罩,則導致墻壁和地面之間的九十度陰角無法被打磨,存在打磨局限性。
因此,現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)了還可對陰角進行打磨的打磨機;如授權(quán)公告號為CN203317170U的中國實用新型專利——一種墻面打磨機可旋轉(zhuǎn)可拆卸的打磨盤護罩結(jié)構(gòu),該方案將保護罩分成固定盤和轉(zhuǎn)動盤兩部分,轉(zhuǎn)動盤可相對固定盤實現(xiàn)拆卸,當操作者需要對陰角進行打磨時,先拆下轉(zhuǎn)動盤以露出打磨盤的一部分,并用打磨盤露出的那一部分對陰角進行打磨。
然后上述這類改進版的打磨裝置仍存在不足之處,由于整個打磨機上沒有相對墻壁或地面的參考支撐物,導致操作者不易控制打磨盤相對墻壁或地面的進給量;舉個例子,當該打磨機用于打磨地面時,以墻壁為參考面,打磨盤需要沿墻壁這個參考面對陰角進行打磨,但由于打磨機上缺乏與參考面的支撐對照裝置,導致操作者無法很好的控制打磨盤相對參考面的進給量,當進給量不足時,地面的陰角處無法很好的被打磨完,當進給量過大時,打磨盤會抵接到墻壁并對墻壁造成磨損。
實用新型內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本實用新型的目的之一是提供一種平面打磨機,方便控制打磨盤相對于參考面的進給量。
本實用新型的上述目的是通過以下技術(shù)方案得以實現(xiàn)的:
一種平面打磨機,包括保護罩、安裝于保護罩內(nèi)的打磨盤,保護罩包括固定部和拆卸部,打磨盤部分位于固定部內(nèi)且另一部分位于拆卸部內(nèi);還包括連接于保護罩的輔助架,輔助架上安裝有至少一個導向滾動件,且所有導向滾動件的外周壁與打磨盤伸出固定部部分的外周壁均相切于同一平面,該平面為參考平面。
通過采用上述技術(shù)方案,當操作者需要對陰角處的地面或墻面進行打磨時,可將拆卸部拆下,以使打磨盤部分露出,并用打磨盤的露出部分對陰角處進行打磨。
操作者在實現(xiàn)地面打磨時,可將打磨機朝參考平面無腦推動,直至導向滾動件抵接至參考平面,此時打磨盤也剛好相切于參考平面,該狀態(tài)下,操作者可推動打磨機貼沿參考平面對地面陰角處進行打磨,而且還正好能控制打磨盤與墻面之間保持合適的進給量。
本實用新型在一較佳示例中可以進一步配置為:所述輔助架上安裝有一個導向滾動件,且打磨盤的外周壁輪廓與導向滾動件的外周壁輪廓在打磨盤的打磨平面內(nèi)的投影呈內(nèi)相切設置。
通過采用上述技術(shù)方案,雖然該實施例下僅設有一組導向滾動件,但由于該組導向滾動件的外周壁輪廓與打磨盤的外周壁輪廓在打磨盤的打磨平面內(nèi)的投影呈內(nèi)相切設置,則操作者仍能夠較好的控制打磨盤與參考平面之間保持合適的進給量。
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