[實(shí)用新型]一種鋪光畫(huà)相框有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202020110666.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN212307425U | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 馬飛 |
| 主分類(lèi)號(hào): | A47G1/06 | 分類(lèi)號(hào): | A47G1/06;F21V33/00 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 100025 北京市*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鋪光畫(huà)相框 | ||
本實(shí)用新型提供了一種鋪光畫(huà)相框,涉及畫(huà)框/相框領(lǐng)域,包括光源、聚光槽體、遮光件、底板和畫(huà)相框體;在聚光槽體上設(shè)置由出光端面圍合成的聚光槽,并在聚光槽外圍設(shè)置與出光端面對(duì)接的光源,在聚光槽體正表面以及聚光槽正面槽口附近設(shè)置遮光件,光源發(fā)出的光線通過(guò)出光端面投射到由聚光槽與底板形成的下沉聚光空間內(nèi),并鋪設(shè)在聚光槽下方的底板表面;通過(guò)由外向內(nèi)朝局部扁平空間內(nèi)多方向集中投射扁平光束型光線,并通過(guò)遮光件的設(shè)置,遮擋或/并過(guò)濾所述聚光槽外圍以及聚光槽內(nèi)的部分面積所發(fā)出的會(huì)造成視覺(jué)干擾的不必要光線,從而視覺(jué)上除了下沉聚光空間內(nèi)整體空間充滿光線,其他部位不發(fā)光,能更佳突出位于下沉聚光空間底部的畫(huà)相作品表面的鋪光和展示效果;具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、光線柔和且視覺(jué)效果好的特點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及畫(huà)框/相框領(lǐng)域,具體涉及一種鋪光畫(huà)相框。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)繪畫(huà)(包括油畫(huà)和國(guó)畫(huà))作品和印刷圖案(包括圖紙)以及照片必須在一定光照亮度的環(huán)境下才可觀賞,所在環(huán)境的光線不能太強(qiáng)也不能太暗,而且整個(gè)作品光的照度還得均勻,特別是對(duì)一些藝術(shù)類(lèi)的作品,對(duì)光的要求格外特殊。
目前,對(duì)畫(huà)相的補(bǔ)光措施包括利用射燈或背光板,其中,射燈設(shè)置在作品之外斜上方并對(duì)畫(huà)面單方向照射,缺點(diǎn)是鋪光不夠集中,單方向投射的光線容易產(chǎn)生陰影,會(huì)涉及到作品之外的區(qū)域,局部亮度過(guò)高或過(guò)暗,不能真實(shí)體現(xiàn)作品的原貌;背光板一般設(shè)置在畫(huà)面或照片的背面,通過(guò)背光板的發(fā)光從畫(huà)相的背面發(fā)光,從而光透過(guò)畫(huà)相從正面發(fā)散出來(lái),這樣,被背光板襯底的畫(huà)相體現(xiàn)的視覺(jué)效果類(lèi)似醫(yī)院X光透視照片一樣,缺點(diǎn)是,首先對(duì)畫(huà)相的材質(zhì)的透光性有要求,不同材質(zhì)對(duì)應(yīng)不同的效果,其次,背面透光會(huì)讓作品的視覺(jué)效果失真,破壞原有的色彩、飽和度以及層次感等。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種鋪光畫(huà)相框,向局部扁平空間內(nèi)由外向內(nèi)多方向集中橫向鋪射扁平光束型光線,并突顯充滿光線的扁平空間以及空間底部的畫(huà)相作品表面鋪光均勻、視覺(jué)效果好的特點(diǎn)。
基于上述目的,本實(shí)用新型提供的一種鋪光畫(huà)相框,包括光源、聚光槽體、遮光件、底板和畫(huà)相框體;
所述聚光槽體上設(shè)置有聚光槽,至少在所述聚光槽內(nèi)的兩段朝向相對(duì)的槽側(cè)壁端面外圍對(duì)接所述光源,對(duì)接所述光源的所述槽側(cè)壁端面為出光端面;所述底板設(shè)置在所述聚光槽正面槽口的下方,所述聚光槽正面槽口面積在所述底板上的縱向投影與所述底板面積有交集部分,所述聚光槽與底板之間形成下沉聚光空間;所述遮光件設(shè)置在所述聚光槽體上方,所述遮光件中央位置設(shè)置有與所述聚光槽對(duì)應(yīng)的鏤空面積,所述聚光槽正面槽口面積和其所對(duì)應(yīng)的所述底板表面都至少有一部分通過(guò)所述遮光件中央的鏤空面積外露在所述遮光件縱向投影的面積之外;所述聚光槽體和所述遮光件中至少一個(gè)的周邊外緣設(shè)置在所述畫(huà)相框體內(nèi);設(shè)置在所述出光端面外圍的所述光源位于所述遮光件和所述畫(huà)相框體正面框檐兩者中至少一個(gè)的下方,所述出光端面都對(duì)接有所述光源,所述光源發(fā)光從所述聚光槽外圍多個(gè)方向經(jīng)過(guò)所對(duì)接的所述出光端面集中投射到所述下沉聚光空間內(nèi),并向位于所述下沉聚光空間底部的所述底板表面鋪射光線。
所述遮光件遮擋或/并過(guò)濾所述聚光槽外圍以及聚光槽內(nèi)的部分面積所發(fā)出的會(huì)造成視覺(jué)干擾的不必要光線,從而保證了所述出光端面為唯一或/和主要的光線出口,使絕大多數(shù)光線從所述出光端面投射到所述下沉聚光空間中,視覺(jué)上除了下沉聚光空間中充滿光線以及底板表面被鋪射光線外,其他不需要直接發(fā)光部位基本看不到會(huì)產(chǎn)生干擾的光線,從而突顯下沉聚光空間內(nèi)彌漫著柔和光線,并完美展示底板表面的鋪光效果。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于馬飛,未經(jīng)馬飛許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202020110666.3/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。





