[實用新型]一種鈍化鍍膜系統有效
| 申請號： | 202020064617.0 | 申請日： | 2020-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN211125680U | 公開（公告）日： | 2020-07-28 |
| 發明（設計）人： | 于義超;陳斌;張俊兵 | 申請（專利權）人： | 晶澳（揚州）太陽能科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L31/18 | 分類號： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京天達知識產權代理事務所(普通合伙) 11386 | 代理人： | 叢洪杰 |
| 地址： | 225009 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鈍化 鍍膜 系統 | ||
1.一種鈍化鍍膜系統，其特征在于，沿著物料傳輸方向包括進料倉、用于沉積鈍化膜的抗PID裝置、PECVD工藝倉和出料倉；
所述抗PID裝置包括用于提供O2或壓縮空氣的氣瓶、用于誘發O2產生O3的誘導裝置和鈍化倉；所述誘導裝置設于所述鈍化倉內，能夠在常溫下誘發O2產生O3。
2.根據權利要求1所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述PECVD工藝倉包括加熱區、成膜工藝區和降溫區。
3.根據權利要求2所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述加熱區內設有電阻絲加熱器。
4.根據權利要求1所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述進料倉、所述鈍化倉、所述PECVD工藝倉和所述出料倉的倉門上均設有倉門密封圈。
5.根據權利要求1-4任一項所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述進料倉、所述鈍化倉、所述PECVD工藝倉和所述出料倉的倉門上均設有位置傳感器，用于實現各個倉門的自動開啟和關閉。
6.根據權利要求5所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述誘導裝置包括紫外燈。
7.根據權利要求5所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述進料倉內設有紅外加熱器，用于預熱物料。
8.根據權利要求1所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述鈍化倉和所述PECVD工藝倉內設有壓力傳感器。
9.根據權利要求6-8任一項所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述抗PID裝置還包括流量控制器，所述流量控制器設于所述氣瓶和所述鈍化倉之間。
10.根據權利要求9所述的鈍化鍍膜系統，其特征在于，所述抗PID裝置還包括控制閥，所述控制閥設于所述氣瓶和所述鈍化倉之間。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射，或微粒輻射敏感的，并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的，或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件；專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的，例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的，一個或多個電光源，如場致發光光源在結構上相連的，并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
