[實用新型]一種硅片開槽機

有效

• 申請號: 202020063404.6
• 申請日: 2020-01-13
• 公開（公告）號: CN211376598U
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 張曹朋
• 申請（專利權）人: 安徽弘電微電子有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京勁創知識產權代理事務所(普通合伙) 11589
• 代理人: 陸瀅炎

本實用新型公開了一種硅片開槽機，包括機架，所述機架的上方設置有機臺，所述機臺的頂部開設有酸液槽，所述酸液槽的內部滑動設置有活動密封板，所述活動密封板的頂部設置有向中傾斜的斜面一，所述酸液槽內側的頂端設置有環形密封塊，所述環形密封塊的底部設置有與活動密封板的斜面相互匹配斜面二，所述環形密封塊內側的中間位置處設置有條型密封板，所述活動密封板頂部中間位置處垂直設置有活動桿。本實用新型在將花籃移出酸液槽時，可對防止硅片上的雜質進入酸液槽內部，延遲酸液的使用時間，同時可對酸液槽內部進行密封，防止酸液槽內部的酸液揮發。

技術領域

本實用新型涉及開槽機技術領域，具體的涉及一種硅片開槽機。

背景技術

在半導體晶片加工中，需在硅片表面由酸行開槽處理?，F有技術中，硅片開槽用開槽機的使用方法是：將待開槽硅片裝入花籃內，花籃整個放入混合酸液中，待腐蝕時間達到，將花籃提出酸液。該機存在以下缺點：1、酸液在腐蝕硅片過程中，將釋放大量反應熱，該熱能不能及時散去，其結果是導致酸液溫度升高，而高溫酸液必將影響反應的正常進行；2、反應完成后，從酸液取出的花籃帶出大量酸液，該酸液不能得到很好處理，容易造成機臺的污染。

國家知識產權局2016年5月4日授權了一件名為“一種硅片開槽機”的實用新型專利，其申請號為：201520934126.6，該專利雖然解決了上述問題，但是在使用時，還是存在以下缺陷：1、硅片放入酸液槽內部進行腐蝕時，硅片上會的雜質會殘留在酸液槽內部，無法將雜質取出，導致需要頻繁更換酸液，2、酸液槽內部的酸液沒有密封保存，酸液容易揮發。

實用新型內容

1.要解決的技術問題

本實用新型的目的在于提供一種硅片開槽機，以解決上述背景技術中提出的問題。

2.技術方案

為解決上述問題，本實用新型采取如下技術方案：

一種硅片開槽機，包括機架，所述機架的上方設置有機臺，所述機臺的頂部開設有酸液槽，所述酸液槽的內部滑動設置有活動密封板，所述活動密封板的頂部設置有向中傾斜的斜面一，所述酸液槽內側的頂端設置有環形密封塊，所述環形密封塊的底部設置有與活動密封板的斜面相互匹配斜面二，所述環形密封塊內側的中間位置處設置有條型密封板，所述活動密封板頂部中間位置處垂直設置有活動桿，且活動桿遠離活動密封板的一端延伸至條型密封板頂部固定連有橫桿，所述橫桿的兩端皆設置有花籃吊架，所述橫桿上方的機臺頂部垂直設置有電動伸縮桿，且電動伸縮桿的輸出端與橫桿頂部固定連接，所述條型密封板下方的活動密封板上貫穿設置有兩個通孔。

優選的，所述酸液槽外側的機臺內部設置有冷卻管。

優選的，所述條型密封板兩側的活動密封板頂部垂直設置有濾網。

優選的，所述機臺一側設置有用于控制電動伸縮桿伸縮的控制器。

優選的，所述橫桿的長度小于酸液槽長度。

3.有益效果